Menu
Informace o osobě
prof. Ing. Jindřich MUSIL, DrSc.
Nadřazené pracoviště: Fakulta aplikovaných věd
Katedra fyziky
E-mail:
Místnost:
UF 208
(Univerzitní 22
, Plzeň
)
Telefon:
37763 2225
volat
Pracoviště: Katedra fyziky
| Nadřazené pracoviště | Fakulta aplikovaných věd (FAV) |
|---|---|
| Pracovní zařazení | profesor |
| Telefon | +420 37763 2225 volat UF208 |
Nové pulzní magnetronové výboje pro přípravu pokročilých tenkovrstvých materiálů
| Hlavní řešitel: | Prof. RNDr. Jaroslav Vlček CSc. |
| Trvání: | 02/2013 - 12/2016 |
| Poskytovatel: | Grantová agentura České republiky (Standardní projekty) |
| Detail projektu |
Tvrdé nanokompozitní vrstvy se zvýšenou houževnatostí a unikátními vlastnostmi
| Hlavní řešitel: | Prof. Ing. Jindřich Musil DrSc. |
| Trvání: | 01/2012 - 12/2015 |
| Poskytovatel: | Grantová agentura České republiky (Standardní projekty) |
| Detail projektu |
Nové plazmové zdroje pro depozici vrstev a modifikaci povrchů
| Hlavní řešitel: | Prof. RNDr. Jaroslav Vlček CSc. |
| Trvání: | 01/2010 - 12/2012 |
| Poskytovatel: | Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy (COST) |
| Detail projektu |
Flexible Production Technologies and Equipment Based on Atmospheric Pressure Plasma Processing for 3D Nano Structured Surfaces - N2P
| Hlavní řešitel: | Dr. Otmar Zimmer |
| Trvání: | 06/2008 - 11/2012 |
| Poskytovatel: | EUROPEAN COMMISSION (Collaborative project - Small or medium-scale focused research project) |
| Detail projektu |
Procesy ve výbojovém plazmatu a nové tenkovrstvé materiály s unikátními vlastnostmi
| Hlavní řešitel: | Prof. RNDr. Jaroslav Vlček CSc. |
| Trvání: | 01/2005 - 12/2011 |
| Poskytovatel: | Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy (Výzkumné záměry) |
| Detail projektu |
Krystalizace amorfních a nanokrystalických tenkých vrstev
| Hlavní řešitel: | doc. RNDr. Radomír Kužel CSc. |
| Trvání: | 01/2006 - 12/2008 |
| Poskytovatel: | Grantová agentura České republiky (Standardní projekty) |
| Detail projektu |
PHOTOCOAT
| Hlavní řešitel: | Walter Krause |
| Trvání: | 03/2003 - 09/2007 |
| Poskytovatel: | EUROPEAN COMMISSION (5. RP EU-IST) |
| Detail projektu |
Reaktivní depozice a charekterizace tenkých vrstev na bázi nových sloučenin
| Hlavní řešitel: | Doc. Ing. Petr Zeman Ph.D. |
| Trvání: | 09/2003 - 08/2006 |
| Poskytovatel: | Grantová agentura České republiky (POST-DOC projekty) |
| Detail projektu |
Vliv obsahu mědi na vlastnosti nanokompozitu na bázi karbidu titanu a mědi
| Hlavní řešitel: | Ing. Jan Soldán |
| Trvání: | 01/2005 - 12/2005 |
| Poskytovatel: | Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy (Fond rozvoje vysokých škol) |
| Detail projektu |
Reaktivná magnetronová depozice tenkých vrstev na bázi Mo-Al-N
| Hlavní řešitel: | Ing. Jan Šůna |
| Trvání: | 1/2004 - 12/2004 |
| Poskytovatel: | Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy (Fond rozvoje vysokých škol) |
| Detail projektu |
Příprava a výzkum vlastností oxidů na bázi zirkonu
| Hlavní řešitel: | Ing. Michal Jirout |
| Trvání: | 1/2004 - 12/2004 |
| Poskytovatel: | Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy (Fond rozvoje vysokých škol) |
| Detail projektu |
Nanostrukturní tenké vrstvy
| Hlavní řešitel: | Prof. Ing. Jindřich Musil DrSc. |
| Trvání: | 10/2002 - 12/2004 |
| Poskytovatel: | Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy (KONTAKT) |
| Detail projektu |
Nové nanokrystalické materiály a jejich příprava
| Hlavní řešitel: | Rostislav Daniel |
| Trvání: | 1/2003 - 12/2003 |
| Poskytovatel: | Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy (Fond rozvoje vysokých škol) |
| Detail projektu |
Modernizace laboratoří pro fzyiku a inženýrství pevných látek
| Hlavní řešitel: | Prof. RNDr. Jaroslav Vlček CSc. |
| Trvání: | 1/2003 - 12/2003 |
| Poskytovatel: | Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy (Fond rozvoje vysokých škol) |
| Detail projektu |
Magnetronové naprašování tenkých vrstev
| Hlavní řešitel: | Prof. Ing. Jindřich Musil DrSc. |
| Trvání: | 01/1998 - 12/2002 |
| Poskytovatel: | Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy (KONTAKT) |
| Detail projektu |
Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy
| Hlavní řešitel: | Prof. Ing. Jindřich Musil DrSc. |
| Trvání: | 01/1996 - 12/2001 |
| Poskytovatel: | Grantová agentura České republiky (Standardní projekty) |
| Detail projektu |
Přehled publikací zapsaných v IS ZČU (156)
2013
| MUSIL, J., BAROCH, P. High-rate pulsed reactive magnetron sputtering of oxide nanocomposite coatings. Vacuum, 2013, roč. 87, č. January, s. 96-102. ISSN: 0042-207X Detail |
| MUSIL, J., NOVÁK, P., HROMÁDKA, M., ČERSTVÝ, R., SOUKUP, Z., SAVKOVÁ, J. Mechanical and tribological properties of sputtered Mo-O-N coatings. Surface & Coatings Technology, 2013, roč. 215, č. 1, s. 386-392. ISSN: 0257-8972 Detail |
2012
| HOUŠKA, J., SOUKUP, Z., REZEK, J., JÍLEK, R., MUSIL, J., VLČEK, J. Composition-structure-properties relationships of metal (Al, Ti, Ta, Zr) oxynitride thin films studied by ellipsometry and FTIR. Garmisch-Partenkirchen, Německo, 2012. Detail |
| ZEMAN, P., PROKŠOVÁ, Š., BLAŽEK, J., ČERSTVÝ, R., MUSIL, J. Cu-dependent thermal transformations in hard Al-Cu-O coatings. San Diego, USA, 2012. Detail |
| HROMÁDKA, M., NOVÁK, P., MUSIL, J., ČERSTVÝ, R., SOUKUP, Z. Effect of oxygen and nitrogen content on mechanical and tribological properties of Mo-N-O thin films. San Diego, USA, 2012. Detail |
| MUSIL, J., SKLENKA, J. Hard Zr-Al-O films with enhanced resistance to cracking in bending. Garmisch-Partenkirchen, Německo, 2012. Detail |
| MUSIL, J. Hard nanocomposite coatings: Thermal stability, oxidation resistance and toughness. Surface and Coatings Technology, 2012, roč. 2012, č. 207, s. 50-65. ISSN: 0257-8972 Detail |
| STUPKA, P., MUSIL, J., PROKŠOVÁ, Š., ČERSTVÝ, R., ZEMAN, P. Magnetron sputtering of Ti/Al multilayer coatings composed of nano-bilayers. Garmisch-Partenkirchen, Německo, 2012. Detail |
| HROMÁDKA, M., MUSIL, J., ČERSTVÝ, R., SOUKUP, Z. Mechanical and tribological properties of magnetron sputtered Sn-Cu-O films. Garmisch-Partenkirchen, Německo, 2012. Detail |
| BAROCH, P., JÍLEK, R., MUSIL, J. Plasma drift effect in dual magnetron. Praha, 2012. Detail |
| BAROCH, P., JÍLEK, R., PECKOVÁ, L., PAJDAROVÁ, A., MUSIL, J. Plasma drift effect in dual magnetron ? fundamental properties and implications. Garmisch-Partenkirchen, Německo, 2012. Detail |
| BLAŽEK, J., MUSIL, J., STUPKA, P., ČERSTVÝ, R., HOUŠKA, J. Properties of nanocrystalline Al-Cu-O films reactively sputtered by dc pulse dual magnetron. San Diego, USA, 2012. Detail |
| MUSIL, J., SKLENKA, J., ČERSTVÝ, R., SUZUKI, T., MORI, T., TAKAHASHI, M. The effect of addition of Al in zirkonium dioxide thin film on its resistance to cracking. Surface and Coatings Technology, 2012, roč. 2012, č. 207, s. 355-360. ISSN: 0257-8972 Detail |
| PROKŠOVÁ, Š., ZEMAN, P., BLAŽEK, J., ČERSTVÝ, R., MUSIL, J. Thermal transformations in magnetron sputtered Al-Cu-O films. Garmisch-Partenkirchen, Německo, 2012. Detail |
| MUSIL, J., SKLENKA, J., ČERSTVÝ, R. Transparent Zr-Al-O oxide coatings with enhanced resistance to cracking. Surface and Coatings Technology, 2012, roč. 206, č. 8-9, s. 2105-2109. ISSN: 0257-8972 Detail |
| MUSIL, J., JÍLEK, R., MEISSNER, M., TÖLG, T., ČERSTVÝ, R. Two-phase single layer Al-O-N nanocomposite films with enhanced resistance to cracking. Surface and Coatings Technology, 2012, roč. 206, č. 19-20, s. 4230-4234. ISSN: 0257-8972 Detail |
2011
| NAM, S., CHO, S., JUNG, C., BOO, J., ŠÍCHA, J., HEŘMAN, D., MUSIL, J., VLČEK, J. Comparison of hydrophilic properties of TiO2 thin films prepared by sol?gel method and reactive magnetron sputtering system. Thin Solid Films, 2011, roč. 512, č. 20, s. 6944-6950. ISSN: 0040-6090 Detail |
| MUSIL, J., HROMÁDKA, M., NOVÁK, P. Effect of nitrogen on tribological properties of amorphous carbon films alloyed with titanium. Surface & Coatings Technology, 2011, roč. 205, č. 2, s. 'S84'-'S88'. ISSN: 0257-8972 Detail |
| MEISSNER, M., TÖLG, T., BAROCH, P., MUSIL, J. Elimination of Arcing in Reactive Sputtering of Al2O3 Thin Films Prepared by DC Pulse Single Magnetron. Plasma Processes and Polymers, 2011, roč. 8, č. 6, s. 500-504. ISSN: 1612-8850 Detail |
| BLAŽEK, J., MUSIL, J., STUPKA, P., ČERSTVÝ, R., HOUŠKA, J. Properties of nanocrystalline Al?Cu?O films reactively sputtered by DC pulse dual magnetron. APPLIED SURFACE SCIENCE, 2011, roč. 2011, č. 258, s. 1762-1767. ISSN: 0169-4332 Detail |
2010
| NOVÁK, P., MUSIL, J., ČERSTVÝ, R., JÄGER, A. Coefficient of friction and wear of sputtered a-C thin coatings containing Mo. Surface and Coatings Technology, 2010, roč. 205, č. 5, s. 1486-1490. ISSN: 0257-8972 Detail |
| MUSIL, J., ŠATAVA, V., BAROCH, P. High-rate reactive deposition of transparent SiO2 films containing low amount of Zr from molten magnetron target. Thin Solid Films, 2010, roč. 519, č. 2, s. 775-777. ISSN: 0040-6090 Detail |
| KUŽEL, R., NICHTOVÁ, L., MATĚJ, Z., MUSIL, J. In-situ X-ray diffraction studies of time and thickness dependence of crystallization of amorphous TiO2 thin films and stress evolution. Thin Solid Films, 2010, roč. 519, č. 5, s. 1649-1654. ISSN: 0040-6090 Detail |
| MUSIL, J. Recent Progress in Hard Nanocomposite Coatings. In Proceedings of the 10th International Conference on Modification of Materials with Particle Beams and Plasma Flows. Tomsk: Publishing House of the IOA SB RAS, 2010. s. 477-482. ISBN: 978-5-94458-112-9 Detail |
| MUSIL, J., BLAŽEK, J., ZEMAN, P., PROKŠOVÁ, Š., ŠAŠEK, M., ČERSTVÝ, R. Thermal stability of alumina thin films containing γ-Al2O3 phase prepared by reactive magnetron sputtering. Applied Surface Science, 2010, roč. 257, č. 5, s. 1058-1062. ISSN: 0169-4332 Detail |
| MUSIL, J., NOVÁK, P., ČERSTVÝ, R., SOUKUP, Z. Tribological and mechanical properties of nanocrystalline-TiC/a-C nanocomposite thin films. Journal of Vacuum Science and Technology A, 2010, roč. 28, č. 2, s. 244-249. ISSN: 0734-2101 Detail |
| ONDOK, V., MUSIL, J., MEISSNER, M., ČERSTVÝ, R., FAJFRLÍK, K. Two-functional DC sputtered Cu-containing TiO2 thin films. Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry, 2010, roč. 2010, č. 209, s. 158-162. ISSN: 1010-6030 Detail |
2009
| NOVÁK, P., MUSIL, J. Coefficient of friction and wear of MeCx thin films. 2009. Detail |
| ŠÍCHA, J., BAROCH, P., MEISSNER, M., ČERSTVÝ, R., MUSIL, J. Low temperature deposition of anatase TiO2 film by dual magnetron sputtering. 2009. Detail |
| MUSIL, J., ŠATAVA, V., ZEMAN, P., ČERSTVÝ, R. Protective Zr-containing SiO2 coatings resistant to thermal cycling in air up to 1400 °C. Surface and Coatings Technology, 2009, roč. 203, č. 10-11, s. 1502-1507. ISSN: 0257-8972 Detail |
| MUSIL, J., LOUDA, M., ČERSTVÝ, R., BAROCH, P., DITTA, I., STEELE, A., FOSTER, H. Two-Functional Direct Current Sputtered Silver-Containing Titanium Dioxide Thin Films. Nanoscale Research Letters, 2009, roč. 4, č. 4, s. 313-320. ISSN: 1931-7573 Detail |
| MEISSNER, M., MUSIL, J., ONDOK, V., FAJFRLÍK, K. Two-functional DC sputtered Cu-containing TiO2 thin films. 2009. Detail |
2008
| KUŽEL, R., NICHTOVÁ, L., MATĚJ, Z., ŠÍCHA, J., MUSIL, J. Complex XRD studies of crystallization of amorphous and nanocrystalline magnetron-deposited TiO2 films with different thickness. In Proceedings of ICTF 14 & RSD 2008. Ghent: [S.n.], 2008. s. 143-146. ISBN: 978-90-334-7347-0 Detail |
| ŠATAVA, V., MUSIL, J., ČERSTVÝ, R., ZEMAN, P., TÖLG, T. Formation of Crystalline Al-Ti-O Thin Films and their Properties. Praha, 2008. Detail |
| ŠATAVA, V., MUSIL, J., ČERSTVÝ, R., ZEMAN, P., TÖLG, T. Formation of crystalline Al-Ti-O thin films and their properties. In Abstracts. Dresden: European Society of Thin Films, 2008. s. 469-469. Detail |
| MUSIL, J., ŠATAVA, V., ČERSTVÝ, R., ZEMAN, P., TÖLG, T. Formation of crystalline Al-Ti-O thin films and their properties. Surface and Coatings Technology, 2008, roč. 202, č. 24, s. 6064-6069. ISSN: 0257-8972 Detail |
| MUSIL, J., VLČEK, J., ZEMAN, P. Hard amorphous nanocomposite coatings with oxidation resistance above 1000°C. Advances in Applied Ceramics, 2008, roč. 107, č. 3, s. 148-154. ISSN: 1743-6753 Detail |
| MUSIL, J., BAROCH, P., ZEMAN, P. Hard nanocomposite coatings : present status and trends. In Plasma Surface Engineering Research and its Practical Applications. Kerala, India : Research Signpost, 2008, s. 1-34. ISBN: 978-81-308-0257-2 Detail |
| BULÍR, J., POKORNÝ, P., NOVOTNÝ, M., MIŠINA, M., LANCOK, J., MUSIL, J. Mass spectrometry of plasma processes during reactive DC pulsed magnetron sputtering. In Abstracts. Dresden: European Society of Thin Films, 2008. s. 408-408. Detail |
| MEISSNER, M., ŠÍCHA, J., MUSIL, J., ČERSTVÝ, R. Nanostructure of Photocatalytic TiO2 Films Sputtered at Temperatures below 200°C. In Programme and Abstracts. Praha: České vysoké učení technické, 2008. s. 159-160. ISBN: 978-80-01-04030-0 Detail |
| ŠÍCHA, J., MUSIL, J., MEISSNER, M., ČERSTVÝ, R. Nanostructure of photocatalytic TiO2 films sputtered at temperatures below 200°C. Applied Surface Science, 2008, roč. 254, č. 13, s. 3793-3800. ISSN: 0169-4332 Detail |
| BAROCH, P., MUSIL, J. Plasma Drift in Dual Magnetron Discharge. IEEE Transactions on Plasma Science, 2008, roč. 36, č. 4, s. 1412-1413. ISSN: 0093-3813 Detail |
| BAROCH, P., LAZAR, J., MUSIL, J. Plasma Drift in Dual Magnetron Discharge. In Programme and Abstracts. Praha: České vysoké učení technické, 2008. s. 138-139. ISBN: 978-80-01-04030-0 Detail |
| MUSIL, J., ŠAŠEK, M., ZEMAN, P., ČERSTVÝ, R., HEŘMAN, D., HAN, J., ŠATAVA, V. Properties of magnetron sputtered Al-Si-N thin films with a low and high Si content. Surface and Coatings Technology, 2008, roč. 202, č. 15, s. 3485-3493. ISSN: 0257-8972 Detail |
| MUSIL, J., LOUDA, M., SOUKUP, Z., KUBÁSEK, M. Relationship between mechanical properties and coefficient of friction of sputtered a-C/Cu composite thin films. Diamond and Related Materials, 2008, roč. 17, č. 11, s. 1905-1911. ISSN: 0925-9635 Detail |
| ŠAŠEK, M., MUSIL, J., ZEMAN, P. Structure and Mechanical Properties of Al-Si-N Films with a Low and High Si Content. San Diego, 2008. Detail |
| ŠAŠEK, M., MUSIL, J., ZEMAN, P. Structure and Mechanical Properties of Al-Si-N Films with a Low and High Si Content. Praha, 2008. Detail |
| ŠAŠEK, M., MUSIL, J., ZEMAN, P. Structure and mechanical properties of Al-Si-N thin films with a low and high Si content. In Abstracts. Dresden: European Society of Thin Films, 2008. s. 581-581. Detail |
| NICHTOVÁ, L., KUŽEL, R., ŠÍCHA, J., MUSIL, J. XRD in-situ study of crystallization of magnetron-deposited TiO2 thin films. In Proceedings of ICTF 14 & RSD2008. Ghent: Ghent University, 2008. s. 338-341. ISBN: 978-90-334-7347-0 Detail |
2007
| ŠÍCHA, J., MUSIL, J. Decomposition of organic dyes with sputtered TiO2 photocatalytic films. In XXVIII International conference on phenomena in ionized gases. Praha: Institute of Plasma Physics AS CR, 2007. s. 671-674. ISBN: 978-80-87026-01-4 Detail |
| SOLDÁN, J., MUSIL, J., ZEMAN, P. Effect of Al Addition on Structure and Properties of Sputtered TiC Films. Plasma Processes and Polymers, 2007, roč. 4, č. S1, s. S6-S10. ISSN: 1612-8850 Detail |
| ONDOK, V., MUSIL, J. Effect of Hydrogen on Reactive Sputtering of Transparent Oxide Films. Plasma Processes and Polymers, 2007, roč. 4, č. S1, s. S319-S324. ISSN: 1612-8850 Detail |
| MUSIL, J., ONDOK, V. Effect of hydrogen on sputtering discharge and properties of TiO2 films. In XXVIII International conference on phenomena in ionized gases. Prague: Institute of Plasma Physics AS CR, 2007. s. 675-678. ISBN: 978-80-87026-01-4 Detail |
| KUŽEL, R., NICHTOVÁ, L., HEŘMAN, D., ŠÍCHA, J., MUSIL, J. Growth of magnetron sputtered TiO2 thin films studied by X-ray scattering. Zeitschrift für Kristallographie, 2007, roč. 2007, č. suppl. 26, s. 241-246. ISSN: 0044-2968 Detail |
| MUSIL, J., ZEMAN, P. Hard a-Si3N4/MeNx Nanocomposite Coatings with High Thermal Stability and High Oxidation Resistance. Solid State Phenomena, 2007, roč. 127, s. 31-36. ISSN: 1012-0394 Detail |
| VLČEK, J., KUDLÁČEK, P., BURCALOVÁ, K., PAJDAROVÁ, A., MUSIL, J. High-power pulsed magnetron discharges for ionized high-rate sputtering of films. In Book of abstracts of 16th Symposium on Application of Plasma Processes. Bratislava: Comenius University, 2007. s. 79-80. ISBN: 978-80-89186-13-6 Detail |
| VLČEK, J., KUDLÁČEK, P., BURCALOVÁ, K., MUSIL, J. High-power pulsed sputtering using a magnetron with enhanced plasma confinement. Journal of Vacuum Science and Technology A, 2007, roč. 25, č. 1, s. 42-47. ISSN: 0734-2101 Detail |
| ŠÍCHA, J., HEŘMAN, D., MUSIL, J., STRÝHAL, Z., PAVLÍK, J. High-rate low-temperature dc pulsed magnetron sputtering of photocatalytic TiO2 films: the effect of repetition frequency. Nanoscale Research Letters, 2007, roč. 2, č. 3, s. 123-129. ISSN: 1931-7573 Detail |
| ŠÍCHA, J., HEŘMAN, D., MUSIL, J. High-rate magnetron sputtering of crystalline TiO2 films. In Book of abstracts of 16th Symposium on Application of Plasma Processes. Bratislava: Comenius University, 2007. s. 255-256. ISBN: 978-80-89186-13-6 Detail |
| VLČEK, J., KUDLÁČEK, P., BURCALOVÁ, K., MUSIL, J. Ion flux characteristics in high-power pulsed magnetron sputtering discharges. Europhysics Letters, 2007, roč. 77, č. 4, s. 45002-1-45002-5. ISSN: 0295-5075 Detail |
| NICHTOVÁ, L., KUŽEL, R., MATĚJ, Z., ŠÍCHA, J., MUSIL, J. Magnetron deposited TiO2 thin films crystallization and temperature dependence of microstructure and phase composition. Materials Structure in Chemistry, Biology, Physics and Technology, 2007, roč. 14, č. 2, s. 139-140. ISSN: 1211-5894 Detail |
| SHAGINYAN, L., KIM, Y., HAN, J., BRITUN, N., MUSIL, J., BELOUSOV, I. Novel model for film growth based on surface temperature developing during magnetron sputtering. Surface and Coatings Technology, 2007, roč. 202, č. 3, s. 486-493. ISSN: 0257-8972 Detail |
| MUSIL, J., ZEMAN, P., JIROUT, M., ŠAŠEK, M., ČERSTVÝ, R. Oxidation of Sputtered Cu, Zr, ZrCu, ZrO2, and Zr-Cu-O Films during Thermal Annealing in Flowing Air. Plasma Processes and Polymers, 2007, roč. 4, č. S1, s. S536-S540. ISSN: 1612-8850 Detail |
| ŠAŠEK, M., ZEMAN, P., MUSIL, J. Oxidation of sputtered Cu films during thermal annealing in flowing air. In XXVIII International conference on phenomena in ionized gases. Prague: Institute of Plasma Physics AS CR, 2007. s. 711-712. ISBN: 978-80-87026-01-4 Detail |
| HEŘMAN, D., ŠÍCHA, J., MUSIL, J. Photoactivated Properties of TiO2 Films Prepared by Magnetron Sputtering. Plasma Processes and Polymers, 2007, roč. 4, č. S1, s. S531-S535. ISSN: 1612-8850 Detail |
| MUSIL, J. Properties of hard nanocomposite thin films. In Nanocomposite thin films and coatings. London : Imperial College Press, 2007, s. 281-328. ISBN: 978-1-86094-784-1 Detail |
| MUSIL, J., ŠÍCHA, J., HEŘMAN, D., ČERSTVÝ, R. Role of energy in low-temperature high-rate formation of hydrophylic TiO2 thin films using pulsed magnetron sputtering. Journal of Vacuum Science and Technology A, 2007, roč. 25, č. 1, s. 666-674. ISSN: 0734-2101 Detail |
| KUŽEL, R., MATĚJ, Z., ŠÍCHA, J., MUSIL, J. Structural studies of crystallization and growth of magnetron deposited TiO2 thin films by X-ray diffraction and reflectivity. Acta Crystallographica, 2007, č. 3, s. 284-285. ISSN: 0108-7673 Detail |
| KUŽEL, R., NICHTOVÁ, L., MATĚJ, Z., HEŘMAN, D., ŠÍCHA, J., MUSIL, J. Study of crystallization of magnetron sputtered TiO2 thin films by X-ray scattering. Zeitschrift für Kristallographie, 2007, roč. 2007, č. suppl. 26, s. 247-252. ISSN: 0044-2968 Detail |
| ŠÍCHA, J., HEŘMAN, D., MUSIL, J., STRÝHAL, Z., PAVLÍK, J. Surface Morphology of Magnetron Sputtered TiO2 Films. Plasma Processes and Polymers, 2007, roč. 4, č. S1, s. S345-S349. ISSN: 1612-8850 Detail |
| MUSIL, J., ZEMAN, P., DOHNAL, P. Ti-Si-N Films with a High Content of Si. Plasma Processes and Polymers, 2007, roč. 4, č. S1, s. S574-S578. ISSN: 1612-8850 Detail |
| PAJDAROVÁ, A., VLČEK, J., KUDLÁČEK, P., LUKÁŠ, J., MUSIL, J. Time-resolved Langmuir probe diagnostics of high-power pulsed dc magnetron discharges during deposition of copper films. In XXVIII International conference on phenomena in ionized gases. Praha: Institute of Plasma Physics AS CR, 2007. s. 1960-1962. ISBN: 978-80-87026-01-4 Detail |
| MUSIL, J., JIROUT, M. Toughness of hard nanostructured ceramic thin films. Surface and Coatings Technology, 2007, roč. 201, č. 9-11, s. 5148-5152. ISSN: 0257-8972 Detail |
2006
| ŠŮNA, J., MUSIL, J., DOHNAL, P. Control of macrostress in reactively sputtered Mo-Al-N films by total gas pressure. Vacuum, 2006, roč. 80, č. 6, s. 588-592. ISSN: 0042-207X Detail |
| ZEMAN, P., MUSIL, J. Difference in high-temperature oxidation resistance of amorphous Zr-Si-N and W-Si-N films with a high Si content. Applied Surface Science, 2006, roč. 252, č. 23, s. 8319-8325. ISSN: 0169-4332 Detail |
| SOLDÁN, J., ZEMAN, P., MUSIL, J. Effect of Al addition on structure and properties of sputtered TiC films. In Abstracts. Dresden: EFDS e.V., 2006. s. 209-209. Detail |
| JIROUT, M., MUSIL, J. Effect of addition of Cu into ZrOx film on its properties. Surface and Coatings Technology, 2006, roč. 200, č. 24, s. 6792-6800. ISSN: 0257-8972 Detail |
| ONDOK, V., MUSIL, J. Effect of hydrogen on reactive sputtering of transparent oxide films. In Abstracts. Dresden: EFDS e.V., 2006. s. 63-63. Detail |
| ŠŮNA, J., MUSIL, J., ONDOK, V., HAN, J. Enhanced hardness in sputtered Zr-Ni-N films. Surface and Coatings Technology, 2006, roč. 200, č. 22-23, s. 6293-6297. ISSN: 0257-8972 Detail |
| SHAGINYAN, L., HAN, J., SHAGINYAN, V., MUSIL, J. Evolution of film temperature during magnetron sputtering. Journal of Vacuum Science and Technology A, 2006, roč. 24, č. 4, s. 1083-1090. ISSN: 0734-2101 Detail |
| KUŽEL, R., NICHTOVÁ, L., MATĚJ, Z., HEŘMAN, D., MUSIL, J. Growth of nanocrystalline magnetron sputtered TiO2 thin films studied by X-ray scattering. Materials Structure in Chemistry, Biology, Physics and Technology, 2006, roč. 13, č. 3, s. 158-160. ISSN: 1211-5894 Detail |
| BURCALOVÁ, K., VLČEK, J., KUDLÁČEK, P., LUKÁŠ, J., MUSIL, J. High-power pulsed magnetron sputtering: model predictions and experimental verification. In Abstracts. Dresden: EFDS e.V., 2006. s. 541-541. Detail |
| VLČEK, J., KUDLÁČEK, P., BURCALOVÁ, K., MUSIL, J. High-power pulsed sputtering of metallic films with a newly designed magnetron. In Advanced in industrial PVD technologies. Sheffield: Sheffield Hallam University, 2006. s. 25-25. Detail |
| VLČEK, J., KUDLÁČEK, P., BURCALOVÁ, K., MUSIL, J. High-power pulsed sputtering with a newly designed magnetron. In 49th Annual technical conference proceedings. Washington: Society of Vacuum Coaters, 2006. s. 338-342. Detail |
| ZEMAN, P., MUSIL, J., DANIEL, R. High-temperature oxidation resistance of Ta-Si-N films with a high Si content. Surface and Coatings Technology, 2006, roč. 200, č. 12-13, s. 4091-4096. ISSN: 0257-8972 Detail |
| KUDLÁČEK, P., VLČEK, J., MUSIL, J., BURCALOVÁ, K., LUKÁŠ, J. Ion flux characteristics and ionization degree of sputtered particles in high-power pulsed magnetron sputtering. In Abstracts. Dresden: EFDS e.V., 2006. s. 81-81. Detail |
| MUSIL, J., HEŘMAN, D., ŠÍCHA, J. Low-temperature sputtering of crystalline TiO2 films. Journal of Vacuum Science and Technology A, 2006, roč. 24, č. 3, s. 521-528. ISSN: 0734-2101 Detail |
| MUSIL, J., HEŘMAN, D., ŠÍCHA, J. Low-temperature sputtering of crystalline TiO2 films. In Proceedings of the 6th International conference on reactive plasmas and 23rd Symposium on plasma proceedings. Matsushima/Sendai: ICRP, 2006. s. 123-124. Detail |
| MUSIL, J., VLČEK, J., BAROCH, P. Magnetron discharges for thin films plasma processing. In Materials surface processing by directed energy techniques. Oxford, Velká Británie : Elsevier, 2006, s. 67-106. ISBN: 0-08-044496-2 Detail |
| HEŘMAN, D., ŠÍCHA, J., MUSIL, J. Magnetron sputtering of TiOxNy films. Vacuum, 2006, roč. 81, č. 3, s. 285-290. Detail |
| LOUDA, M., ŠŮNA, J., MUSIL, J. Mechanical properties and coefficient of friction of Cu/a-C films. In Abstracts. Dresden: EFDS e.V., 2006. s. 309-309. Detail |
| MUSIL, J., ŠAŠEK, M., ČERSTVÝ, R., JIROUT, M., ZEMAN, P. Oxidation of sputtered Cu, Zr, ZrCu, ZrO2 and Zr-Cu-O films during thermal annealing in flowing air. In Abstracts. Dresden: EFDS e.V., 2006. s. 114-114. Detail |
| HEŘMAN, D., MUSIL, J., ŠÍCHA, J. Photocatalytic properties of TiO2 films prepared by magnetron sputtering. In Abstracts. Dresden: EFDS e.V., 2006. s. 69-69. Detail |
| MUSIL, J., DANIEL, R., SOLDÁN, J., ZEMAN, P. Properties of reactively sputtered W-Si-N films. Surface and Coatings Technology, 2006, roč. 200, č. 12-13, s. 3886-3895. ISSN: 0257-8972 Detail |
| SOLDÁN, J., MUSIL, J. Structure and mechanical properties of DC magnetron sputtered Ti/Cu films. Vacuum, 2006, roč. 81, č. 4, s. 531-538. ISSN: 0042-207X Detail |
| ŠÍCHA, J., STRÝHAL, Z., MUSIL, J., HEŘMAN, D., PAVLÍK, J. Surface morphology of magnetron sputtered TiO2 films. In Abstracts. Dresden: EFDS e.V., 2006. s. 333-333. Detail |
| DANIEL, R., MUSIL, J., ZEMAN, P., MITTERER, C. Thermal stability of magnetron sputtered Zr-Si-N films. Surface and Coatings Technology, 2006, roč. 201, č. 6, s. 3368-3376. ISSN: 0257-8972 Detail |
| MUSIL, J., ČERSTVÝ, R., DOHNAL, P., ZEMAN, P. Ti-Si-N nanocomposite films with a high content of Si. In Abstracts. Dresden: EFDS e.V., 2006. s. 406-406. Detail |
| KUŽEL, R., NICHTOVÁ, L., HEŘMAN, D., MUSIL, J. X-ray scattering study of crystallization of magnetron sputtered TiO2 thin films. Acta Crystallographica. Section A, 2006, roč. 62, č. suppl., s. 84-84. ISSN: 0108-7673 Detail |
2005
| JUNG, M., CHUNG, Y., HOUŠKA, J., BAROCH, P., VLČEK, J., MUSIL, J., NAM, K., HAN, J. A study on the energy distribution for grid-assisting magnetron sputtering. Surface and Coatings Technology, 2005, roč. 200, č. 1-4, s. 421-424. ISSN: 0257-8972 Detail |
| VLČEK, J., PAJDAROVÁ, A., BĚLSKÝ, P., LUKÁŠ, J., KUDLÁČEK, P., MUSIL, J. Characterization of high-power pulsed dc magnetron discharges for ionized high-rate sputtering of copper films. In 48th Annual technical conference proceedings. Denver: Society of Vacuum Coaters, 2005. s. 465-469. Detail |
| VLČEK, J., PAJDAROVÁ, A., BĚLSKÝ, P., LUKÁŠ, J., KUDLÁČEK, P., MUSIL, J. Characterization of high-power pulsed dc magnetron discharges for ionized high-rate sputtering of metallic films. In Plasmatechnologie. Braunschweig: Digitaldruck und Einband - Buchbinderei Wolfram Schmidt, 2005. s. 35-35. Detail |
| MUSIL, J., BAROCH, P. Discharge in dual magnetron sputtering system. IEEE Transactions on Plasma Science, 2005, roč. 33, č. 2, s. 338-339. ISSN: 0093-3813 Detail |
| MUSIL, J., HEŘMAN, D., ŠÍCHA, J., BAROCH, P. High-rate reactive magnetron sputtering of Al2O3 films. Toronto, 2005. Detail |
| MUSIL, J. Nanocomposite coatings with enhanced hardness. In Euro PM2005. Shrewsbury: European Powder Metallurgy Association, 2005. s. 481-488. ISBN: 1899072-18-7 Detail |
| MUSIL, J. Nanocomposite coatings with enhanced hardness. Acta Metallurgica Sinica, 2005, roč. 18, č. 3, s. 433-442. ISSN: 1006-7191 Detail |
| MUSIL, J. Physical and mechanical properties of hard nanocomposite films prepared by reactive magnetron sputtering. In Nanostructured hard coatings. New York : Kluwer Academic/Plenum Publishers, 2005, s. 407-454. ISBN: 0-387-25642-3 Detail |
| MUSIL, J., DOHNAL, P., ZEMAN, P. Physical properties and high-temperature oxidation resistance of sputtered Si3N4/MoNx nanocomposite coatings. Journal of Vacuum Science and Technology, 2005, roč. 23, č. 4, s. 1568-1575. ISSN: 0734-2101 Detail |
| BAROCH, P., MUSIL, J., VLČEK, J., NAM, K., HAN, J. Reactive magnetron sputtering of TiOx films. Surface and Coatings Technology, 2005, roč. 193, č. 1-3, s. 107-111. ISSN: 0257-8972 Detail |
| HEŘMAN, D., MUSIL, J., BAROCH, P. Reactive magnetron sputtering of oxide films by pulsed dual system. Toronto, 2005. Detail |
| MUSIL, J., BAROCH, P., VLČEK, J., NAM, K., HAN, J. Reactive magnetron sputtering of thin films: present status and trends. Thin Solid Films, 2005, roč. 475, č. 1-2, s. 208-218. ISSN: 0040-6090 Detail |
| MUSIL, J., DANIEL, R., ZEMAN, P., TAKAI, O. Structure and properties of magnetron sputtered Zr-Si-N films with a high Si content. Thin Solid Films, 2005, roč. 478, č. 1-2, s. 238-247. ISSN: 0040-6090 Detail |
| MUSIL, J., ŠŮNA, J. The role of energy in formation of sputtered nanocomposite films. Materials Science Forum, 2005, roč. 502, s. 291-296. ISSN: 0255-5476 Detail |
2004
| JUNG, M., HOUŠKA, J., BAROCH, P., VLČEK, J., MUSIL, J., NAM, K., HAN, J. A study on the energy distribution for grid-assisting magnetron sputtering. In Abstracts. Düsseldorf: VDI-Technologiezentrum, 2004. s. 332-. Detail |
| ŠŮNA, J., MUSIL, J., DOHNAL, P. Control of macrostress in reactively sputtered Mo(Al)Nx films by energy of bombarding ions. In Abstracts. Düsseldorf: VDI-Technologiezentrum, 2004. s. 280-. Detail |
| MUSIL, J., POLÁKOVÁ, H., ŠŮNA, J., VLČEK, J. Effect of ion bombardment on properties of hard reactively sputtered Ti(Fe)Nx films. Surface and Coatings Technology, 2004, s. 289-298. ISSN: 0257-8972 Detail |
| VLČEK, J., PAJDAROVÁ, A., BĚLSKÝ, P., KORMUNDA, M., LEŠTINA, J., MUSIL, J. High-power pulsed dc magnetron discharges for ionized high-rate sputtering of thin films. In 47th Annual SVC Technical Conference Proceedings. Dallas: Society of Vacuum Coaters, 2004. s. 426-431. Detail |
| LUKÁŠ, J., LEŠTINA, J., MUSIL, J., VLČEK, J. High-power pulsed magnetron sputtering with a grooved target. In Abstracts. Düsseldorf: VDI-Technologiezentrum, 2004. s. 406-406. Detail |
| MUSIL, J., BAROCH, P., HEŘMAN, D. High-rate reactive magnetron sputtering of transparent titanium dioxide films. In Abstracts. Düsseldorf: VDI-Technologiezentrum, 2004. s. 402-402. Detail |
| ZEMAN, P., MUSIL, J., ZEMAN, H., DANIEL, R. High-temperature oxidation resistance of Ta-Si-N coatings with a high Si content. In Abstracts. Düseldorf: VDI-Technologiezentrum, 2004. s. 321-321. Detail |
| MUSIL, J., MIYAKE, S. Nanocomposite coatings with enhanced hardness. In Novel materials processing by advanced electromagnetic energy sources. Amsterdam: Elsevier, 2004. s. 345-356. ISBN: 978-0-08-044504-5 Detail |
| KIM, Y., JUNG, M., VLČEK, J., MUSIL, J., HAN, J. Optical emission spectra and ion energy distributions in tin deposition process by reactive pulsed magnetron sputtering. In Abstracts. Düsseldorf: VDI-Technologiezentrum, 2004. s. 254-254. Detail |
| ZEMAN, H., MUSIL, J., ZEMAN, P. Physical and mechanical properties of sputtered Ta-Si-N films with a high content of Si. Journal of Vacuum Science and Technology A, 2004, roč. 22, č. 3, s. 646-649. ISSN: 0734-2101 Detail |
| MUSIL, J., DANIEL, R., SOLDÁN, J., DUB, P., FADENBERGER, K., HAWRANEK, G., MAYRHOFER, P. Properties of reactively sputtered W-Si-N films. In Abstracts. Düsseldorf: VDI-Technologiezentrum, 2004. s. 82-. Detail |
| VLČEK, J., PAJDAROVÁ, A., MUSIL, J. Pulsed dc mangetron discharges and their utilization in plasma surface engineering. Contributions to Plasma Physics, 2004, roč. 44, č. 5-6, s. 426-436. ISSN: 0863-1042 Detail |
| MUSIL, J., JIROUT, M. Structure and mechanical properties of magnetron sputtered ZrOx and Zr-Cu-O films. In Abstracts. Düsseldorf: VDI-Technologiezentrum, 2004. s. 299-299. Detail |
| DANIEL, R., MUSIL, J., ZEMAN, P., MITTERER, C. Thermal stability of magnetron sputtered Zr-Si-N films. In Abstracts. Düsseldorf: VDI-Technologiezentrum, 2004. s. 294-294. Detail |
2003
| PAJDAROVÁ, A., VLČEK, J., BĚLSKÝ, P., LEŠTINA, J., MUSIL, J. Characterization of pulsed dc magnetron sputtering plasmas using time-resolved optical emission spectroscopy. In Proceedings of the XIVth Symposium on Application of Plasma Processes. Liptovský Mikuláš : Military Academy , 2003. s. 124-125. ISBN: 8080401950 Detail |
| LEŠTINA, J., MUSIL, J. Electrical resistivity of Cu films sputtered by pulsed dc magnetron. In Proceedings of the XIVth Symposium on Application of Plasma Processes. Liptovský Mikuláš : Military Academy , 2003. s. 122-123. ISBN: 8080401950 Detail |
| MUSIL, J. Hard nanocomposite films prepared by reactive magnetron sputtering. In Nanostructured thin films and nanodispersion strengthened coatings. Dordrecht: Kluwer Academic Publishers, 2003. s. 43-56. ISBN: 1-4020-2221-2 Detail |
| LUKÁŠ, J., LEŠTINA, J., VLČEK, J., MUSIL, J. High-power pulsed magnetron sputtering with a grooved target. In JUNIORMAT '03. Brno: University of Technology, 2003. s. 48-49. ISBN: 80-214-2462-1 Detail |
| ZEMAN, P., ZEMAN, H., MUSIL, J. High-temperature behavior of Ta-Si-N thin films with a high content of Si. In JUNIORMAT '03. Brno: University of Technology, 2003. s. 60-61. ISBN: 80-214-2462-1 Detail |
| KUNC, F., MUSIL, J., MAYRHOFER, P., MITTERER, C. Low-stress superhard Ti-B prepared by magnetron sputtering. Surface and Coatings Technology, 2003, s. 744-753. ISSN: 0257-8972 Detail |
| MUSIL, J., ZEMAN, H., KUNC, F., VLČEK, J. Measurement of hardness of superhard films by microindentation. MATERIALS SCIENCE & ENGINEERING, 2003, č. Č. 340, s. 281-285. Detail |
| MUSIL, J., ZEMAN, H., KUNC, F., VLČEK, J. Measurement of hardness of superhard films by microindentation. Materials Science and Engineering A, 2003, č. Č. 340, s. 281-285. ISSN: 0921-5093 Detail |
| ZEMAN, H., MUSIL, J., ZEMAN, P. Physical and mechanical properties of sputtered Ta-Si-N films with a high content of Si . In Proceedings of the International Workshop on Designing Interfacial Structures in Advanced Materials and their Joints. Vienna: University of Vienna, 2003. s. 51-57. Detail |
| JIROUT, M., MUSIL, J. Plasma nitriding of titanium coatings prepared by magnetron sputtering. In JUNIORMAT '03. Brno: 2003. s. 44-45. ISBN: 80-214-2462-1 Detail |
| ŠŮNA, J., MUSIL, J. Properties of reactively sputtered hard Ti(Fe)Nx films. In JUNIORMAT ’03. Brno: University of Technology, 2003. s. 12-15. ISBN: 80-214-2462-1 Detail |
| BAROCH, P., MUSIL, J., VLČEK, J., NAM, K., HAN, J. Reactive magnetron sputtering of TiOx films. In JUNIORMAT ’03. Brno: University of Technology, 2003. s. 16-19. ISBN: 80-214-2462-1 Detail |
| DANIEL, R., MUSIL, J. Structure and mechanical properties of magnetron sputtered Zr-Si-N films with a high Si content. In JUNIORMAT '03. Brno: University of Technology, 2003. s. 34-37. ISBN: 80-214-2462-1 Detail |
| DANIEL, R., MUSIL, J. Structure and mechanical properties of magnetron sputtered Zr-Ti-Cu-N films. In Proceedings of the XIVth Symposium on Application of Plasma Processes. Liptovský Mikuláš : Military Academy , 2003. s. 114-115. ISBN: 8080401950 Detail |
| MUSIL, J., DANIEL, R. Structure and mechanical properties of magnetron sputtered Zr-Ti-Cu-N films. SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2003, roč. 2003, s. 243-253. Detail |
| MUSIL, J., DANIEL, R. Structure and mechanical properties of magnetron sputtered Zr-Ti-Cu-N films. Surface & Coatings Technology, 2003, roč. 166, s. 243-253. ISSN: 0257-8972 Detail |
| POLÁKOVÁ, H., MUSIL, J., VLČEK, J., ALAART, J., MITTERER, C. Structure-hardness relations in sputtered Ti-Al-V-N films. Thin Solid Films, 2003, s. 189-198. Detail |
| POLÁKOVÁ, H., MUSIL, J., VLČEK, J., ALAART, J., MITTERER, C. Structure-hardness relations in sputtered Ti-Al-V-N films. Thin Solid Films, 2003, roč. 444, s. 189-198. ISSN: 0040-6090 Detail |
| MAYRHOFER, P., MITTERER, C., MUSIL, J. Structure-property relationships in single and dual-phase nanocrystalline hard coatings. Surface and Coatings Technology, 2003, s. 725-731. ISSN: 0257-8972 Detail |
| MAYRHOFER, P., MITTERER, C., MUSIL, J. Structure-property relationships in single and dual-phase nanocrystalline hard coatings. Surface and Coatings Technology, 2003, s. 725-731. ISSN: 0257-9872 Detail |
| MUSIL, J., STÁDNÍK, T., ČERŇANSKÝ, M. Superhard Mo-Al-N films composed of grains with different crystallographic orientations and/or lattice structures. Journal Korean Institute Surface Engineering, 2003, roč. 36, č. 1, s. 22-26. Detail |
| ZEMAN, H., MUSIL, J., VLČEK, J., MAYRHOFER, P., MITTERER, C. Thermal annealing of sputtered Al-Si-Cu-N films. Vacuum, 2003, roč. 72, s. 21-28. ISSN: 0042-207X Detail |
| PAJDAROVÁ, A., VLČEK, J., BĚLSKÝ, P., MUSIL, J. Time-resolved optical emission spectroscopy of pulsed dc magnetron sputtering plasmas. In XXVI International Conference on Phenomena in Ionized Gases, Volume 1. Greifswald: Local Organizing Committee, 2003. s. 139-140. ISBN: 3-00-011689-3 Detail |
2002
| SHAGINYAN, L., MIŠINA, M., ZEMEK, J., MUSIL, J., REGENT, F., BRITUN, V. Composition, structure, microhardness and residual stress of W-Ti-N films deposited by reactive magnetron sputtering. Thin Solid Films, 2002, roč. 408, č. 1-2, s. 136-147. ISSN: 0040-6090 Detail |
| RŮŽIČKA, M., VLČEK, J., MUSIL, J. Effective nitriding of steels outside low-pressure microwave discharges . Surface and Coatings Technology, 2002, roč. 156, č. 1-3, s. 182-184. ISSN: 0257-8972 Detail |
| MUSIL, J., VLČEK, J., REGENT, F., KUNC, F., ZEMAN, H. Hard Nanocomposite Coatings Prepared by Magnetron Sputtering. Key Engineering Materials, 2002, s. 613-622. ISSN: 1013-9826 Detail |
| MUSIL, J., VLČEK, J., ZEMAN, P., SETSUHARA, Y., MIYAKE, S. Morphology and Microstructure of Hard and Superhard Zr-Cu-N Nanocomposite Coatings. Japanese Journal of Applied Physics, 2002, roč. 41, č. 11A, s. 6529-6533. ISSN: 0021-4922 Detail |
| MUSIL, J., KUNC, F., ZEMAN, H., POLÁKOVÁ, H. Relationship between hardness, Young's modulus and elastic recovery in hard nanocomposite coatings. Surface and Coatings Technology, 2002, roč. 154, s. 304-313. ISSN: 0257-8972 Detail |
| MUSIL, J., ZEMAN, H., KASL, J. Relationship between structure and mechanical properties in hard Al-Si-Cu-N films prepared by magnetron sputtering. Thin Solid Films, 2002, roč. 413, č. 1-2, s. 121-130. ISSN: 0040-6090 Detail |
Vyučované předměty
2011
| Letní semestr | KFY/SOS | Speciální oborový seminář ( v angl.j. ) |
2010
| Letní semestr | KFY/FT | Fyzikální technologie povrchových vrstev |
| Letní semestr | KFY/SOS | Speciální oborový seminář ( v angl.j. ) |
2009
| Letní semestr | KFY/FT | Fyzikální technologie povrchových vrstev |
| Letní semestr | KFY/SOS | Speciální oborový seminář ( v angl.j. ) |
2008
| Letní semestr | KFY/FT | Fyzikální technologie povrchových vrstev |
| Letní semestr | KFY/SOS | Speciální oborový seminář ( v angl.j. ) |
2007
| Letní semestr | KFY/SOS | Speciální oborový seminář ( v angl.j. ) |
2006
| Letní semestr | KFY/SOS | Speciální oborový seminář ( v angl.j. ) |
2005
| Letní semestr | KFY/SOS | Speciální oborový seminář ( v angl.j. ) |
2004
| Letní semestr | KFY/SOS | Speciální oborový seminář ( v angl.j. ) |
2003
| Letní semestr | KFY/SOS | Speciální oborový seminář ( v angl.j. ) |
2002
| Letní semestr | KFY/SOS | Speciální oborový seminář ( v angl.j. ) |
2001
| Letní semestr | KAR/KPA | Klasická a provinciální archeologie |
| Letní semestr | KFY/SOS | Speciální oborový seminář ( v angl.j. ) |
| Letní semestr | KAR/KLA | Úvod do klasické archeologie |