| Kód projektu: | GA202/02/0216 |
|---|---|
| Poskytovatel: | Grantová agentura České republiky (GAČR - Standardní projekty) |
| Doba trvání: | 01/2002 - 12/2004 |
| Obory projektu: | Fyzika plasmatu a výboje v plynech | | |
| Hlavní řešitel: |
Fyzikální ústav AV ČR, v.v.i.
|
| Spolupracující řešitelé: |
|
Anotace
Pulzní magnetronové naprašování pro depozici diamantu podobných uhlíkových (DLC) vrstev s nízkým vnitřním pnutím. Vysoká hustota plazmatu urychluje syntézu a kondenzaci vrstvy díky zvýšené koncentraci vysokoenergetických reaktivních částic a iontů v plazmatu. Nežádoucím důsledkem toho bývá přehřívání katody a substrátu. Vývoj technologie směřuje k používání pulsního modu místo nepřerušovaného doutnavého výboje, aby se zamezilo uvedené komplikaci. Pulzní magnetronové naprašování je univerzálnější a lépe řiditelný proces než odpařování obloukem a je produktivnější než odpařování laserem. Obě metody mohou též používat pulzní plazma. Při magnetronovém výboji je uskutečnitelný jak režim s extrémě vysokým výkonem, tak i režim s vysokou pulzní amplitudou proudu v poměru k jeho střední hodnotě. Stávající komerční naprašovací zařízení Leybold bude dovybaveno pulzním modulátorem a silnějším stejnosměrným zdrojem, aby bylo možno dosáhnout pulzní amplitudy proudu až 30 A. Studium charakteristik magnetronového...