Přejít k obsahu


Influence of silicon, oxygen and nitrogen admixtures upon the properties of plasma deposited amorphous diamond-like carbon coatings

Citace: [] BURŠÍKOVÁ, V., ZAJÍČKOVÁ, L., DVOŘÁK, P., VALTR, M., BURŠÍK, J., BLÁHOVÁ, O., PEŘINA, V., JANČA, J. Influence of silicon, oxygen and nitrogen admixtures upon the properties of plasma deposited amorphous diamond-like carbon coatings. Journal of Advanced Oxidation Technologies, 2006, roč. 9, č. 2, s. 232-236. ISSN: 1203-8407
Druh: ČLÁNEK
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Influence of silicon, oxygen and nitrogen admixtures upon the properties of plasma deposited amorphous diamond-like carbon coatings
Rok vydání: 2006
Autoři: Vilma Buršíková , L. Zajíčková , Pavel Dvořák , Miroslav Valtr , J. Buršík , Olga Bláhová , Vratislav Peřina , J. Janča
Abstrakt CZ: Amorfní DLC vrstvy s různým obsahem Si, O2 a N2 byly deponovány procesem PECVD. Vrstvy byly hodnoceny metodami RBS, ERDA, FTIR a XPS. Mechanické vlastnosti byly hodnoceny nanoindentační metodou.
Abstrakt EN: Amorphous diamond-like carbon films (DLC) with various silicon, oxygen and nitrogen content were deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) technique. A combination of RBS, ERDA, FTIR and XPS methods was used to study the films´ chemical composition and structure. The mechanical properties were studied using a depth sensing indentation technique.
Klíčová slova

Zpět

Patička