Přejít k obsahu


Tenkovrstvový kremík pre fotovoltaické aplikácie: vplyv depozičních podmienok na štruktúru a mikroštruktúru

Citace: [] MÜLLEROVÁ, J., ŠUTTA, P. Tenkovrstvový kremík pre fotovoltaické aplikácie: vplyv depozičních podmienok na štruktúru a mikroštruktúru. In 2. Česká fotovoltaická konference. Rožnov pod Radhoštěm : Czech RE Agency, 2006. s. 33-37. ISBN: 80-239-7361-4
Druh: STAŤ VE SBORNÍKU
Jazyk publikace: sla
Anglický název: Thin films silicon for fotovoltaic applications: Influence of deposition conditions on the structure and microstructre
Rok vydání: 2006
Místo konání: Rožnov pod Radhoštěm
Název zdroje: Czech RE Agency
Autoři: Jarmila Müllerová , Pavol Šutta
Abstrakt CZ: Příspěvek podává výsledky vyšetřování technologické série tenkých vrstev hydrogenizovaného křemíku připravených plazmatickou depozicí z plynné fáze (PECVD), diskuzi o vlivu zředění plazmy silanu vodíkem a o vlivu tloušťky vrstvy na struktúru, mikrostruktúru a optické vlastnosti vrstev. Výsledky ukazují, že vliv zředění je silnější než vliv tloušťky vrstvy. Ve vrstvách s tloušťkou ~ 400 nm dochází při zředění ≥ 30 ke vzniku polykrystalického křemíku s nanokrystalickými zrny, s amorfní fází a póry. Pod touto hodnotou zředění vzniká očekávaný hraniční tzv. protokrystalický křemík. S rostoucím zředěním klesá koncentrace vodíku a hustota vzorků.
Abstrakt EN: Thin films silicon for fotovoltaic applications: Influence of deposition conditions on the structure and microstructre
Klíčová slova

Zpět

Patička