Přejít k obsahu


Technologie depozice transparentní vodivé vrstvy ZnO:Al vhodné pro tenkovrstevné fotovoltaické články metodou VF naprašování

Citace: [] ŠUTTA, P., NOVOTNÝ, I., TVAROŽEK, V. Technologie depozice transparentní vodivé vrstvy ZnO:Al vhodné pro tenkovrstevné fotovoltaické články metodou VF naprašování. 2006.
Druh: POLOPROVOZ, TECHNOLOGIE, ODRŮDA, PLEMENO
Jazyk publikace: cze
Anglický název: Technology of deposition of transparent conductive oxide ZnO:Al film for photovoltaic cells by means of rf sputtering
Rok vydání: 2006
Název zdroje: Nové technologie - Výzkumné centrum v západočeském regionu, Západočeská univerzita v Plzni
Autoři: Pavol Šutta , Ivan Novotný , Vladimír Tvarožek
Abstrakt CZ: Popisuje se technologie přípravy tenkých vrstev transparentních vodivých oxidů (ZnO:Al) pro fotovoltaické články druhé generace (FVČ na tenkých vrstvách) technikou vysokofrekvenčního naprašování na skleněné podložky. Sledoval se vliv depozičních parametrů na elektrické a optické vlastnosti vrstev.
Abstrakt EN: Technology of deposition of thin transparent conductive oxide films (ZnO:Al) for the second generation photovoltaic cells (PVC on thin films) on glass substrates by means rf sputtering is described. The influence of deposition parameters on electrical and optical properties has been monitored.
Klíčová slova

Zpět

Patička