Přejít k obsahu


Ion-bombardment characteristics during deposition of TiN films using a grid-assisted magnetron system with enhanced plasma potential

Citace: [] KUDLÁČEK, P., VLČEK, J., HOUŠKA, J., HAN, J., JUNG, M., KIM, Y. Ion-bombardment characteristics during deposition of TiN films using a grid-assisted magnetron system with enhanced plasma potential. Vacuum, 2007, roč. 81, č. 9, s. 1109-1113. ISSN: 0042-207X
Druh: ČLÁNEK
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Ion-bombardment characteristics during deposition of TiN films using a grid-assisted magnetron system with enhanced plasma potential
Rok vydání: 2007
Autoři: Pavel Kudláček , Jaroslav Vlček , Jiří Houška , J.G. Han , Min. J. Jung , Yong M. Kim
Abstrakt CZ: Hmotnostní spektroskopie s energiovým rozlišením byla použita pro nalezení rozdílů v bombardovacích charakteristikách iontů během konvenční magnetronové depozice filmů z TiN a depozice za použití magnetronového systému s mřížkami s anodou na vysokém kladném potenciálu (až 350V vzhledem k uzemněným stěnám depoziční komory). Úzké rozdělovací funkce energií iontů s maximem odpovídajícím energii iontů 100eV, byly naměřeny v konvenčním magnetronovém systému se substrátem na předpětí Vb=-100V, v plynné směsi 80%Ar+20%N2 a při celkovém tlaku 0.5Pa. Naopak energiové rozdělovací funkce iontů bombardující uzemněný substrát v magnetronovém systému s mřížkami, při napětí na extrakční elektrodě Vg=+100V, byly za těchto podmínek rozšířené a posunuté k vyšším energiím (až 300eV). Změny v energiových rozdělení iontů byly způsobeny převážně vzrůstem plazmového potenciálu kvůli vysokému anodovému napětí (v tomhle případě zhruba 300V).
Abstrakt EN: Energy-resolved mass spectroscopy was used to investigate differences in ion-bombardment characteristics during conventional reactive magnetron sputtering if TiN films and their deposition using a grid-assisted magnetron system with anode at a high potential (up to 350V relative to grounded chamber walls). Narrow ion energy distributions with a maximum corresponding to the ion energy close to 100eV were obtained for the conventional magnetron deposition on a biased substrate (Vb=-100V) in an 80%Ar+20%N2 gas mixture at a pressure of 0.5Pa. On the contrary, the energy distributions of ions bombarding a grounded substrate in the grid-assisted modified magnetron system with the grid potential Vg=+100V were broadened and extended to higher energies (up to 300eV) under the same conditions. the change in the ion energy distributions is caused by increase in the plasma potential due to the high anode potential.
Klíčová slova

Zpět

Patička