Přejít k obsahu


Role of energy in low-temperature high-rate formation of hydrophylic TiO2 thin films using pulsed magnetron sputtering

Citace: [] MUSIL, J., ŠÍCHA, J., HEŘMAN, D., ČERSTVÝ, R. Role of energy in low-temperature high-rate formation of hydrophylic TiO2 thin films using pulsed magnetron sputtering. Journal of Vacuum Science and Technology A, 2007, roč. 25, č. 1, s. 666-674. ISSN: 0734-2101
Druh: ČLÁNEK
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Role of energy in low-temperature high-rate formation of hydrophylic TiO2 thin films using pulsed magnetron sputtering
Rok vydání: 2007
Autoři: Jindřich Musil , Jan Šícha , David Heřman , Radomír Čerstvý
Abstrakt CZ: Článek se podrobně věnuje nízkoteplotní přípravě fotoaktivních vrstev TiO2 připravených pulzním duálním magnetronem a studiu vlivu dodané energie do deponovaných TiO2-x vrstev a jejich vlastností. Hlavní pozornost je věnována studiu vlivu délky pulzu na vlastnosti připravených vrstev. Bylo prokázáno, že (1) snížení délky pulzu výrazně ovlivňuje iontový tok na substrát je možné připravit nanokrystalické TiO2 vrstvy s vysokou fotoaktivitou i při teplotě Tsurf<100°C (2) zvýšení opakovací frekvence zdroje vede ke zvýšení efektivity depozičního procesu a výraznému zvýšení depoziční rychlosti vrstev.
Abstrakt EN: The article reports on low-temperature high-rate deposition of hydrophilic TiO2 thin films using dc pulse dual magnetron (DM) sputtering in an Ar+O2 mixture on unheated glass substrates. DM is operated in a bipolar asymmetric mode and is equipped with Ti targets 50mm in diameter. Main attention is concentrated on the investigation of the effect of an energy delivered to the TiO2-x film, growing on unheated and heated substrates, by the ion bombardment on its structure.
Klíčová slova

Zpět

Patička