Přejít k obsahu


Oxidation of Sputtered Cu, Zr, ZrCu, ZrO2, and Zr-Cu-O Films during Thermal Annealing in Flowing Air

Citace: [] MUSIL, J., ZEMAN, P., JIROUT, M., ŠAŠEK, M., ČERSTVÝ, R. Oxidation of Sputtered Cu, Zr, ZrCu, ZrO2, and Zr-Cu-O Films during Thermal Annealing in Flowing Air. Plasma Processes and Polymers, 2007, roč. 4, č. S1, s. S536-S540. ISSN: 1612-8850
Druh: ČLÁNEK
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Oxidation of Sputtered Cu, Zr, ZrCu, ZrO2, and Zr-Cu-O Films during Thermal Annealing in Flowing Air
Rok vydání: 2007
Autoři: Jindřich Musil , Petr Zeman , Michal Jirout , Martin Šašek , Radomír Čerstvý
Abstrakt CZ: Článek se zabývá oxidací Cu, Zr, ZrCu, ZrO2 a Zr-Cu-O vrstev během podepozičního žíhání v proudícím vzduchu. Vrstvy byly nadeponovány s použitím nevyváženého dc magnetronu z čistých nebo skládaných terčů v Ar nebo ve směsi Ar+O2. Oxidační chování vrstev bylo charakterizováno pomocí vysokoteplotní termogravimetrie a XRD. Mechanické vlastnosti byly měřeny na mikrotvrdoměru Fischerscope H100. Tepelné žíhání bylo provedeno v širokém rozsahu od 300 do 1300 °C. Zvláštní pozornost byla věnována oxidaci Cu a efektu obsahu Cu v Zr-Cu-O vrstvách na jejich oxidační odolnost. Bylo ukázáno, že přeměna Cu <-> Cu2O při ~1040 °C je vratný proces.
Abstrakt EN: The article deals with oxidation of Cu,Zr,ZrCu,ZrO2, and Zr-Cu-O films during post-deposition thermal annealing in flowing air. The films were deposited using dc unbalanced magnetron from pure or composed target in Ar or an Ar+O2 mixture. The oxidation behavior of the films was characterized by high-temperature thermogravimetry and XRD. Mechanical properties were measured by a microindenter Fischerscope H100. Thermal annealing was carried out over a wide range from 300 to 1300°C. Special attention was devoted to the oxidation of Cu and to the effect of Cu content in Zr-Cu-O films on the oxidation resistance. It was shown that the conversation CuO-Cu2 at 1040°C is a reversible process.
Klíčová slova

Zpět

Patička