Přejít k obsahu


Vplyv parametrov depozície na štruktúru a rýchlosť rastu Al vrstiev pripravených metódou magnetrónového naprašovania

Citace: [] ZUBKO, P., NETRVALOVÁ, M., ŠUTTA, P. Vplyv parametrov depozície na štruktúru a rýchlosť rastu Al vrstiev pripravených metódou magnetrónového naprašovania. In Vrstvy a povlaky 2007. Trenčín: Digital graphic, 2007. s. 197-199. ISBN: 978-80-969310-4-0
Druh: STAŤ VE SBORNÍKU
Jazyk publikace: sla
Anglický název: The influence of deposition parameters on structure and deposition rates of Al films prepared by magnetron sputtering
Rok vydání: 2007
Místo konání: Trenčín
Název zdroje: Digital graphic
Autoři: Pavol Zubko , Marie Netrvalová , Pavol Šutta
Abstrakt CZ: Článek se zabývá vývojem vlastností tenkých vrstev Al připravených rf a dc magnetronovým naprašováním. Strukturní a optické vlastnosti deponovaných vrstev byly charakterizovány ve vztahu ke zdroji, naprašovacímu času a depozičnímu výkonu.
Abstrakt EN: The paper deals with the evaluation of aluminium thin films properties prepared by fr and dc magnetron sputtering techniques. Structural and optical properties of deposited films were characterized in relation to type of the source, sputtering time and deposition power.
Klíčová slova

Zpět

Patička