Přejít k obsahu


Influence of sputtering parameters on crystalline structure of ZnO thin films

Citace: [] TVAROŽEK, V., NOVOTNÝ, I., ŠUTTA, P., FLICKYNGEROVÁ, S., SHTEREVA, K., VAVRINSKÝ, E. Influence of sputtering parameters on crystalline structure of ZnO thin films. Thin Solid Films, 2007, roč. 515, č. 24, s. 8756-8760. ISSN: 0040-6090
Druh: ČLÁNEK
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Influence of sputtering parameters on crystalline structure of ZnO thin films
Rok vydání: 2007
Autoři: Vladimír Tvarožek , Ivan Novotný , Pavol Šutta , Soňa Flickyngerová , K. Shtereva , Erik Vavrinský
Abstrakt CZ: V tomto příspěvku je prezentován vztah mezi depozičními parametry a krystalickou mikrostrukturou tenkých vrstev ZnO.
Abstrakt EN: The relations between the sputtering parameters and the crystalline microstructure of ZnO thin films are presented. The energetic bombardment of substrate by neutral atoms, ions and electrons during sputtering is characterized by total energy flux density which affects the film. This parameter can be estimated by RF power, substrate bias voltage and concentration of reactive gases. Substrate temperature and total energy flux density are the major parameters which have a significant influence on ZnO thin film crystalline structure.
Klíčová slova

Zpět

Patička