Přejít k obsahu


High-power pulsed dc magnetron discharges for ionized high-rate sputtering of thin films

Citace: [] VLČEK, J., PAJDAROVÁ, A., BĚLSKÝ, P., KORMUNDA, M., LEŠTINA, J., MUSIL, J. High-power pulsed dc magnetron discharges for ionized high-rate sputtering of thin films. In 47th Annual SVC Technical Conference Proceedings. Dallas: Society of Vacuum Coaters, 2004. s. 426-431.
Druh: STAŤ VE SBORNÍKU
Jazyk publikace: eng
Anglický název: High-power pulsed dc magnetron discharges for ionized high-rate sputtering of thin films
Rok vydání: 2004
Místo konání: Dallas
Název zdroje: Society of Vacuum Coaters
Autoři: Jaroslav Vlček , Andrea Dag Pajdarová , Petr Bělský , Martin Kormunda , Jan Leština , Jindřich Musil
Abstrakt CZ: V tomto článku jsou uvedeny výsledky experimentálního studia vysokovýkonového pulzního dc magnetronového systému pro vysokorychlostní naprašování vrstev užitím optické emisní spektroskopie s časovým rozlišením a hmotnostní spektroskopie s časovým i energetickým rozlišením.
Abstrakt EN: We report on time-resolved optical emission spectroscopy, and time- and energy-resolved mass spectroscopy, in high-power pulsed dc magnetron discharges generated using an unbalanced circular magnetron with a planar copper target of 100mm in diameter at a repetition frequency of 1kHz.
Klíčová slova

Zpět

Patička