Přejít k obsahu


Characterization of grid -assisted magnetron sputtering using energy-resolved mass spectroscopy

Citace: [] KUDLÁČEK, P., VLČEK, J., HOUŠKA, J., HAN, J., JUNG, M., KIM, Y. Characterization of grid -assisted magnetron sputtering using energy-resolved mass spectroscopy. In 15th symposium on applications of plasma processes. Bratislava: Comenius University, 2005. s. 199-200. ISBN: 80-223-2018-8
Druh: STAŤ VE SBORNÍKU
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Characterization of grid -assisted magnetron sputtering using energy-resolved mass spectroscopy
Rok vydání: 2005
Místo konání: Bratislava
Název zdroje: Comenius University
Autoři: Pavel Kudláček , Jaroslav Vlček , Jiří Houška , J.G. Han , Min. J. Jung , Yong M. Kim
Abstrakt CZ: Pomocí hmotnostní spektroskopie s energiovým rozlišením byly zkoumány rozdíly v rozdělovacích funkcích iontů bombardující substrát během konvenčního a mřížkově asistovaného reaktivního magnetronového naprašování, které bylo navrženo pro depozici filmů s hladkým povrchem a hustou mikrostrukturou.
Abstrakt EN: Energy-resolved mass spectroscopy was used to study differences in ion bombardment characteristics during conventional reactive magnetron sputtering and a grid-assisted magnetron sputtering proposed for deposition of films with a dense microstructure and smooth surface.
Klíčová slova

Zpět

Patička