Přejít k obsahu


Two-functional DC sputtered Cu-containing TiO2 thin films

Citace: [] ONDOK, V., MUSIL, J., MEISSNER, M., ČERSTVÝ, R., FAJFRLÍK, K. Two-functional DC sputtered Cu-containing TiO2 thin films. Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry, 2010, roč. 2010, č. 209, s. 158-162. ISSN: 1010-6030
Druh: ČLÁNEK
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Two-functional DC sputtered Cu-containing TiO2 thin films
Rok vydání: 2010
Autoři: Ing. Václav Ondok , Prof. Ing. Jindřich Musil DrSc. , Ing. Michal Meissner , Ing. Radomír Čerstvý , RNDr. Karel Fajfrlík Ph.D.
Abstrakt CZ: Tento článek referuje o korelacích mezi množstvím mědi přidané do DC naprašované vrstvy TiO2 a její krystalizací, strukturou, optickými vlastnostmi, smáčivostí a efektivitou ničení bakterií Escherichia coli na povrchu kompozitní vrstvy TiO2/Cu po UV ozařování. Je ukázáno, že kompozitní vrstva TiO2/Cu o tloušťce 1000nm s ~1.5 at.% mědi vykazuje současně dvě funkce: (1) dobrou smáčivost a (2) silnou schopnost zabíjet E.coli.
Abstrakt EN: This article reports on the correlations between the amount of Cu added to DC sputtered TiO2 film and its crystallization, structure, optical properties, hydrophilicity and the efficiency of killing of Escherichia coli bacteria on the surface of TiO2/Cu composite film after UV irradiation. It is shown that ~1000 nm thick TiO2/Cu composite film with ~1.5 at.% Cu exhibits simultaneously two functions: (1) good hydrophilicity and (2) strong killing power for E. coli.
Klíčová slova

Zpět

Patička