Přejít k obsahu


Structural and optical studies of a-Si:H thin films: From amorphous to nanocrystalline silicon

Citace: [] MÜLLEROVÁ, J., JUREČKA, S., ŠUTTA, P., MIKULA, M. Structural and optical studies of a-Si:H thin films: From amorphous to nanocrystalline silicon. Acta Physica Slovaca, 2005, roč. 55, č. 3, s. 351-359. ISSN: 0323-0465
Druh: ČLÁNEK
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Structural and optical studies of a-Si:H thin films: From amorphous to nanocrystalline silicon
Rok vydání: 2005
Místo konání: Bratislava
Název zdroje: Slovak Acad Sicences Inst Physics
Autoři: Jarmila Müllerová , S. Jurečka , Doc. RNDr. Pavol Šutta Ph.D. , M. Mikula
Abstrakt CZ: Podáváme zde výsledky vyšetřování povrchové morfologie, strukturních a optických vlastností plasmou deponovaných tenkých vrstev hydrogenizovaného amorfního křemíku určených mikroskopií atomárních sil (AFM), rentgenovou difrakcí a uv-vis a infračervenou spektroskopií. Byl analyzován vliv dvou zředění vodíkem silanové plasmy v silanové dipozici a vliv tloušťky vrstev na vlastnosti vrstev.
Abstrakt EN: We report on the results of the investigation of surface morphology, structure and optical properties of plasma deposited thin films of hydrogenated amorphous silicon determined by atomic force microscopy, X-ray diffraction and UV-Vis and IR spectroscopy. The influence of the both hydrogen dilution of silane plasma in the plasma deposition and the film thickness on the film properties was investigated. The structure, the refractive index and the optical band gap of the dilution series and the thickness series were analyzed.
Klíčová slova

Zpět

Patička