Přejít k obsahu


Thermal stability of alumina thin films containing γ-Al2O3 phase prepared by reactive magnetron sputtering

Citace: [] MUSIL, J., BLAŽEK, J., ZEMAN, P., PROKŠOVÁ, Š., ŠAŠEK, M., ČERSTVÝ, R. Thermal stability of alumina thin films containing γ-Al2O3 phase prepared by reactive magnetron sputtering. Applied Surface Science, 2010, roč. 257, č. 5, s. 1058-1062. ISSN: 0169-4332
Druh: ČLÁNEK
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Thermal stability of alumina thin films containing γ-Al2O3 phase prepared by reactive magnetron sputtering
Rok vydání: 2010
Místo konání: Amsterdam
Název zdroje: Elsevier
Autoři: Prof. Ing. Jindřich Musil DrSc. , Ing. Jakub Blažek , Doc. Ing. Petr Zeman Ph.D. , Ing. Šárka Prokšová , Ing. Martin Šašek , Ing. Radomír Čerstvý
Abstrakt CZ: Článek pojednává o teplotní stabilitě tenkých vrstev obsahujících fázi γ-Al2O3 a přeměně této struktury na termodynamicky stabilní fázi α-Al2O3 v průběhu žíhání. Vrstvy byly připraveny metodou reaktivního magnetronového naprašování a následně žíhány v termogravimetru na vzduchu v teplotním rozmezí 700 °C - 1150 °C s výdrží až 5 hodin. Změny struktury vrstev byly sledovány po ochlazení metodou rentgenové difrakce. Bylo zjištěno, že (1) vrstvy s nanokrystalickou γ-Al2O3 strukturou jsou teplotně stabilní až do 1000 °C i po 5 hodinách žíhání, (2) nanokrystalická fáze θ-Al2O3 se vyskytuje ve vrstvách v úzkém teplotním a časovém intervalu při teplotách ≥1050 °C a (3) po 2 hodinách žíhání na teplotu 1100 °C převažuje ve vrstvách fáze α-Al2O3 pouze v případe, že vrstvy mají dostatečnou tloušťku.
Abstrakt EN: The paper reports on thermal stability of alumina thin films containing γ-Al2O3 phase and its conversion to a thermodynamically stable α-Al2O3 phase during a post-deposition equilibrium thermal annealing. The films were prepared by reactive magnetron sputtering and subsequently post-deposition annealing was carried out in air at temperatures ranging from 700 °C to 1150 °C and annealing times up to 5 h using a thermogravimetric system. The evolution of the structure was investigated by means of X-ray diffraction after cooling down of the films. It was found that (1) the nanocrystalline γ-Al2O3 phase in the films is thermally stable up to 1000 °C even after 5 h of annealing, (2) the nanocrystalline θ-Al2O3 phase was observed in a narrow time and temperature region at ≥1050 °C, and (3) annealing at 1100 °C for 2 h resulted in a dominance of the α-Al2O3 phase only in the films with a sufficient thickness.
Klíčová slova

Zpět

Patička