Přejít k obsahu


Effect of Substrate Temperature on Oblique-Angle Sputtered ZnO:Ga Thin Films

Citace: [] NOVOTNÝ, I., KOTOROVÁ, D., FLICKYNGEROVÁ, S., TVAROŽEK, V., SPIESS, L., SCHAAF, P., NETRVALOVÁ, M., ŠUTTA, P. Effect of Substrate Temperature on Oblique-Angle Sputtered ZnO:Ga Thin Films. In ASDAM 2010. New York: IEEE Nuclear and Plasma Sciences Society, 2010. s. 73 - 76. ISBN: 978-1-4244-8572-7
Druh: STAŤ VE SBORNÍKU
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Effect of Substrate Temperature on Oblique-Angle Sputtered ZnO:Ga Thin Films
Rok vydání: 2010
Místo konání: New York
Název zdroje: IEEE Nuclear and Plasma Sciences Society
Autoři: Ivan Novotný , Dominika Kotorová , Soňa Flickyngerová , Vladimír Tvarožek , L. Spiess , P. Schaaf , Ing. Marie Netrvalová , Doc. RNDr. Pavol Šutta Ph.D.
Abstrakt CZ: Bylo provedeno studium efektu teploty substrátu na šikmo naprašované tenké vrstvy oxidu zinečnatého dopovaného galiem (GZO). Oba parametry - šikmé naprašování a teplota substrátu - snižují rezistivitu tenkých vrstev GZO k hodnotě 4 x 10 na -3 ohm cm a zároveň se zvyšuje optická propustnost na více než 90 %.
Abstrakt EN: A study of the effect of substrate temperature on oblique-angle sputtered galium- doped zinc oxide (GZO) thin films was carried out. Both the oblique-angle sputtering and the substrate temperature lowered the resistivity of GZO thin films down to 4 x 10 -3 ohm cm together with an increase of their optical transmittance over 90%.
Klíčová slova

Zpět

Patička