Přejít k obsahu


Structure and optical properties of the hydrogen diluted a-Si:H thin films prepared by PECVD with different deposition temperatures

Citace: [] NETRVALOVÁ, M., FISCHER, M., MÜLLEROVÁ, J., ZEMAN, M., ŠUTTA, P. Structure and optical properties of the hydrogen diluted a-Si:H thin films prepared by PECVD with different deposition temperatures. In ASDAM 2010. New York: IEEE Nuclear and Plasma Sciences Society, 2010. s. 329-332. ISBN: 978-1-4244-8572-7
Druh: STAŤ VE SBORNÍKU
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Structure and optical properties of the hydrogen diluted a-Si:H thin films prepared by PECVD with different deposition temperatures
Rok vydání: 2010
Místo konání: New York
Název zdroje: IEEE Nuclear and Plasma Sciences Society
Autoři: Ing. Marie Netrvalová , Marinus Fischer , Jarmila Müllerová , Miro Zeman , Doc. RNDr. Pavol Šutta Ph.D.
Abstrakt CZ: Příspěvek se zabývá vrstvami hydrogenizovaného amorfního křemíku (a-Si:H) s tloušťkou cca 300 nm připravovaných užitím rf-PECVD se zředěním vodíku R = 10 ze silanového zdroje v režimu růstu amorfních vrstev na čištěný skleněný substrát Corning Eagle 2000 za různých depozičních teplot (rozmezí 50 až 200 °C). Strukturní a optické vlastnosti vrstev byly získány z rentgenové difrakce a UV-Vis spektrofotometrie. Šířka v polovině výšky prvního rozptylového peaku se snižuje se vzrůstající depoziční teplotou, nad 150 °C již zůstává konstantní. Optická šířka zakázaného pásu se pohybuje v rozmezí 1,65 až 1,76 eV a je možné říci, že slabě klesá se zvyšující se depoziční teplotou, zatímco index lomu se stoupající teplotou roste. To ukazuje, že hustota vrstev při vyšších teplotách vzrůstá.
Abstrakt EN: The paper deals with the hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) films about 300 nm in thickness prepared by using rf-PECVD with hydrogen dilution R = 10 of the silane source gas in the amorphous growth regime onto clean Corning Eagle 2000 glass substrates at different deposition temperatures ranging from 50 to 200 °C. Structural and optical properties of the films were obtained from X-ray diffraction and UV-Vis spectrophotometry. The full width at half maximum of the first scattering peak decreases with increasing of the deposition temperature up to 150 °C and then remains constant. Optical band-gaps are from 1.65 to 1.76 eV, which slightly decrease with increasing deposition temperature, whereas the refractive index increases with increasing deposition temperature. This indicates that the density of the films at higher temperature has increased.
Klíčová slova

Zpět

Patička