Přejít k obsahu


Mechanical properties of ultrananocrystalline thin films deposited using dual frequency discharges

Citace: [] BURŠÍKOVÁ, V., BLÁHOVÁ, O., KARÁSKOVÁ, M., ZAJÍČKOVÁ, L., JAŠEK, O., FRANTA, D., KLAPETEK, P., BURŠÍK, J. Mechanical properties of ultrananocrystalline thin films deposited using dual frequency discharges. Chemické Listy, 2011, roč. 105, č. S, s. 98-101. ISSN: 0009-2770
Druh: ČLÁNEK
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Mechanical properties of ultrananocrystalline thin films deposited using dual frequency discharges
Rok vydání: 2011
Autoři: Vilma Buršíková , Doc. Ing. Olga Bláhová Ph.D. , Monika Karásková , Lenka Zajíčková , Ondřej Jašek , Daniel Franta , Petr Klapetek , Jiří Buršík
Abstrakt EN: The present paper describes the deposition of nanostructured diamond films with low surface roughness, high hardness and fracture toughness by microwave PECVD in the ASTeX type reactor from mixture of methane and hydrogen. The hardness was found to be in the range from 22 to 65 GPa and the elastic modulus ranged form 220 to 375 GPa, depending on the film structure.
Klíčová slova

Zpět

Patička