Přejít k obsahu


Annealing of gold nanostructures sputtered on glass substrate

Citace: [] ŠVORČÍK, V., SIEGEL, P., ŠUTTA, P., MISTRÍK, J., JANÍČEK, P., WORSCH, P., KOLSKÁ, Z. Annealing of gold nanostructures sputtered on glass substrate. APPLIED PHYSICS A-MATERIALS SCIENCE & PROCESSING, 2011, roč. 102, č. 3, s. 605-610. ISSN: 0947-8396
Druh: ČLÁNEK
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Annealing of gold nanostructures sputtered on glass substrate
Rok vydání: 2011
Místo konání: Heidelberg
Název zdroje: Springer
Autoři: Václav Švorčík , P Siegel , Doc. RNDr. Pavol Šutta Ph.D. , J Mistrík , P Janíček , P Worsch , Z Kolská
Abstrakt CZ: Práce se zabývá zkoumáním efektů žíhání při 300°C na zlaté nanostruktury naprašované na skleněné substráty. K vyšetřování vlastností byly použity XRD, SAXSe, Van der Pauwova metoda a elipsometrie. Původní a žíhané vzorky vykazují různé závislosti mřížkových parametrů zlata na depozičním čase. Se zvyšujícím se depozičním časem se zvyšuje průměrná tloušťka vrstev a velikost zlatých krystalitů. Další výrazné zvětšení krystalitů bylo pozorováno po žíhání. Velikost rezistivity rapidně klesá se zvyšujícím se depozičním časem pro obě struktury - původní i žíhané. Se zvyšujícím depozičním časem se původně nespojité krytí povrchu mění ve spojité pokrytí. Elektricky kontinuální zlaté vrstvy pro původní a žíhané vzorky vykazují stejné koncentrace volných nosičů náboje a Hallovu pohyblivost. Optické parametry původních a žíhaných zlatých vrstev určené pomocí elipsometrie podporují měření rezistivity a vykazují přítomnost plasmonů v necelistvých vrstvách.
Abstrakt EN: The effects of annealing at 300 °C on gold nanostructures sputtered onto glass substrate were studied using XRD, SAXSees, the Van der Pauw method and ellipsometry. As-sputtered and annealed samples exhibit a different dependence on the gold lattice parameter on the sputtering time. With increasing sputtering time the average thickness of the layer and the size on gold crystallites increased. Another rapid enlargement of the crystallites is observed after annealing. The volume resistivity decreases rapidly with the increasing sputtering time for both, as deposited and annealed structures. With increasing sputtering time initially discontinuous gold coverage changes gradually in a continuous one. Electrically continuous gold coverage on the as-sputtered and annealed samples exhibits the same concentration of free charge carriers and Hall mobility. Optical constants of as-deposited and annealed gold films determined by ellipsometry support resistivity measurements and clearly manifest the presence of plasmons in discontinuous films.
Klíčová slova

Zpět

Patička