Přejít k obsahu


Overview of optical properties of Al2O3 films prepared by various techniques

Citace: [] HOUŠKA, J., BLAŽEK, J., REZEK, J., PROKŠOVÁ, Š. Overview of optical properties of Al2O3 films prepared by various techniques. Thin Solid Films, 2012, roč. 520, č. 16, s. 5405-5408. ISSN: 0040-6090
Druh: ČLÁNEK
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Overview of optical properties of Al2O3 films prepared by various techniques
Rok vydání: 2012
Místo konání: Amsterdam
Název zdroje: Elsevier
Autoři: Ing. Jiří Houška Ph.D. , Ing. Jakub Blažek , Ing. Jiří Rezek , Ing. Šárka Prokšová
Abstrakt CZ: Článek se zabývá optickými vlastnostmi (měřenými pomocí spektroskopické elipsometrie) tenkých vrstev Al2O3 připravených různými metodami. Tyto metody zahrnuji konvenční pulzní magnetronové naprašování v různých plynných směsích, vysokovýkonové pulzní magnetronové naprašování, žíhání deponovaných vrstev Al2O3 v inertní atmosféře a žíhání deponovaných vrstev Al ve vzduchu. Soustředili jsme se na vliv metody přípravy, depozičních parametrů a žíhací teploty na index lomu, n, a extinkční koeficient, k, stechiometrického Al2O3. Při vlnové délce 550 nm měl n hodnotu 1.50?1.67 pro amorfní deponované Al2O3, 1.65?1.67 pro amorfní Al2O3 získané žíháním Al a 1.46?1.69 pro ?-Al2O3; dále n klesal v důsledku rostoucí teploty žíhání Al2O3 až do 890 °C. Výsledky jsou užitečné pro správnou interpretaci optické charakterizace Al2O3, a pro přípravu Al2O3 požadované struktury a vlastností.
Abstrakt EN: We study optical properties of Al2O3 films prepared by various techniques using spectroscopic ellipsometry. The film preparation techniques include conventional pulsed magnetron sputtering in various gas mixtures, high power impulse magnetron sputtering, annealing of as-deposited Al2O3 in an inert atmosphere and annealing of as-deposited Al in air. We focus on the effect of the preparation technique, deposition parameters and annealing temperature on the refractive index, n, and extinction coefficient, k, of stoichiometric Al2O3. At a wavelength of 550 nm we find n of 1.50?1.67 for amorphous deposited Al2O3, 1.65?1.67 for amorphous Al2O3 obtained by Al annealing, 1.46?1.69 for ?- Al2O3 and decreasing n for Al2O3 annealing temperature increasing up to 890 °C. The results facilitate correct interpretation of optical characterization of Al2O3, as well as selection of a preparation technique corresponding to a required Al2O3 structure and properties.
Klíčová slova

Zpět

Patička