Přejít k obsahu


EFFECT OF DEPOSITION CONDITIONS ON MECHANICAL PROPERTIES OF MAGNETRON SPUTTERED SiC THIN FILMS

Citace: [] ČTVRTNÍK, R., KULIKOVSKY, V., BOHÁČ, P., BLÁHOVÁ, O. EFFECT OF DEPOSITION CONDITIONS ON MECHANICAL PROPERTIES OF MAGNETRON SPUTTERED SiC THIN FILMS. Chemické listy, 2012, roč. 106, č. S, s. 395-398. ISSN: 0009-2770
Druh: ČLÁNEK
Jazyk publikace: eng
Anglický název: EFFECT OF DEPOSITION CONDITIONS ON MECHANICAL PROPERTIES OF MAGNETRON SPUTTERED SiC THIN FILMS
Rok vydání: 2012
Autoři: Radim Čtvrtník , Valeriy Kulikovsky , Petr Boháč , Doc. Ing. Olga Bláhová Ph.D.
Abstrakt CZ: Článek se zabývá korelací mechanických vlastností (tvrdost, modul pružnosti, vnitřní pnutí, koeficient tření), mikrostruktury a složení různých typů amorfních a nanokrystalických vrstev SiC a SiC:H deponovaných DC magnetronem a DC reaktivním magnetronem. Složení bylo hodnoceno elektronovou mikrosondou a mikrostruktura byla zkoumaná Ramanovou spektroskopií. Indentační tvrdost a redukovaný modul pružnosti byly hodnoceny nanoindentační metodou, koeficient tření byl hodnocen metodou pin-on-disk. Bylo zjištěno, že mechanické a tribologické vlastnosti jsou silně ovlivňovány depozičními podmínkami. Použitím vhodných parametrů je možné získat supertvrdé nanokrystalické vrstvy s tvrdostí 40 GPa (vyšší než a-SiC) nebo vrstvy s kombinací vysoké tvrdosti (kolem 19 GPa) a relativně nízkého koeficientu tření (přibližně 0,15).
Abstrakt EN: The interdependence of mechanical properties (hardness, elastic modulus, internal stress, coefficient of friction), structure and composition of various amorphous and nanocrystalline DC magnetron and DC reactive magnetron sputtered SiC a SiC:H films was studied. Composition was determined by electron microanalyses and structure was investigated using Raman spectroscopy. Indentation hardness and reduced modulus were measured by instrumented nanoindentation, the coefficient of friction was evaluated using pin-on-disc method. It has been showed that mechanical and tribological properties of a-SiC are strongly influenced by conditions of deposition process. Using appropriate deposition setup it is possible to obtain superhard nanocrystalline films with hardness of 40 GPa (higher than a-SiC) as well as films compromising high hardness (approx. 19 GPa) and relatively low coefficient of friction (approx. 0.15).
Klíčová slova

Zpět

Patička