Přejít k obsahu


Change of optical properties of a-Si:H films in dependence on different material structure

Citace: [] PRUŠÁKOVÁ, L., VAVRUŇKOVÁ, V., NETRVALOVÁ, M., MÜLLEROVÁ, J., ŠUTTA, P. Change of optical properties of a-Si:H films in dependence on different material structure. In Modelování a měření v energetice - Moderní technologie pro přeměnu energie. Plzeň: Vědeckotechnická společnost Škoda, 2012. s. 55-58. ISBN: neuveden
Druh: STAŤ VE SBORNÍKU
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Change of optical properties of a-Si:H films in dependence on different material structure
Rok vydání: 2012
Místo konání: Plzeň
Název zdroje: Vědeckotechnická společnost Škoda
Autoři: Ing. Lucie Prušáková , Ing. Veronika Vavruňková Ph.D. , Ing. Marie Netrvalová , doc. RNDr Jarmila Müllerová Ph.D. , Doc. RNDr. Pavol Šutta Ph.D.
Abstrakt CZ: Optické vlastnosti amorfního a mikrokrystalického hydrogenovaného křemíku (?c-Si:H) jsou ovlivněny strukturním uspořádáním materiálu. Tento článek popisuje dvě technologie přípravy mikrokrystalického křemíku. Jedna z možností, jak získat ?c-Si:H je PECVD depozice s řízeným ředěním prekursoru vodíkem. Druhý způsob sestává ze dvou kroků: (i) depozice amorfního hydrogenizovaného křemíku a (ii) izotermální žíhání při teplotě ~600°C při níž dochází k fázové transformaci z amorfní do mikrokrystalické fáze.
Abstrakt EN: Optical properties of hydrogenated amorphous (a-Si:H) and microcrystalline silicon (?c-Si:H) are related to changes in the structural and compositional disorder. This paper describes two different technologies of fabrication of ?c-Si:H films. One of the possibilities how to obtain ?c-Si:H films of a good quality is plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) with controlled hydrogen diluting of silane precursor. Second option is based on two steps: (i) PECVD deposition of a-Si:H films and (ii) isothermal heat treatment at temperature around 600 °C with phase transformation from amorphous to microcrystalline phase.
Klíčová slova

Zpět

Patička