Přejít k obsahu


Hard nanocrystalline Zr-B-C-N films with high electrical conductivity prepared by pulsed magnetron sputtering

Citace: [] VLČEK, J., STEIDL, P., KOHOUT, J., ČERSTVÝ, R., ZEMAN, P., PROKŠOVÁ, Š., PEŘINA, V. Hard nanocrystalline Zr-B-C-N films with high electrical conductivity prepared by pulsed magnetron sputtering. Surface & Coatings Technology, 2013, roč. 215, č. 1, s. 186-191. ISSN: 0257-8972
Druh: ČLÁNEK
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Hard nanocrystalline Zr-B-C-N films with high electrical conductivity prepared by pulsed magnetron sputtering
Rok vydání: 2013
Autoři: Prof. RNDr. Jaroslav Vlček CSc. , Ing. Petr Steidl , Mgr. Jiří Kohout , Ing. Radomír Čerstvý , Doc. Ing. Petr Zeman Ph.D. , Ing. Šárka Prokšová , Vratislav Peřina
Abstrakt CZ: Tvrdé vrstvy Zr-B-C-N byly deponovány na křemíkové substráty pulzním magnetronovým rozprašováním boronkarbidového terče pokrytého zirkoniem (15 nebo 45 % erozní zóny terče) v plynné směsi dusíku a argonu. Podíl dusíku se pohyboval v rozmezí 0-50 %, celkový tlak byl 0,5 Pa. V argonovém výboji s 15 % zirkonia na terči byly připraveny tvrdé (37 GPa) nanokrystalické vrstvy Zr-B-C-N s velmi nízkým tlakovým pnutím (0,4 GPa), vysokou elektrickou vodivostí (rezistivita 2,3 mikroohmmetru) a vysokou oxidační odolností do 650 stupňů Celsia. Ve výboji ve směsi argonu a dusíku (podíl dusíku ? 5 %) se 45 % zirkonia na terči byly připraveny tvrdé (37 GPa) nanokrystalické vrstvy Zr-B-C-N s nízkým tlakovým pnutím (0,6 GPa), velmi vysokou elektrickou vodivostí (rezistivita 1,7 mikroohmmetru) a vysokou oxidační odolností do 550 stupňů Celsia.
Abstrakt EN: Hard Zr-B-C-(N) films were deposited on Si(100) substrates by pulsed magnetron co-sputtering of a single boron carbide-zirconium target in various nitrogen-argon gas mixtures. The target was formed by a boron carbide plate overlapped by zirconium stripes which covered 15 or 45 % of the target erosion area. The nitrogen fractions in the gas mixture were in the range from 0 to 50 % at the total pressure of the gas mixture of 0.5 Pa. Hard (37 GPa) nanocrystalline Zr-B-C-N films with very low compressive stress (0.4 GPa) and high electrical conductivity (resistivity of 2.3 microohmmeter) were deposited in argon discharge at the 15 % Zr fraction in the target erosion area. Hard (37 GPa) nanocomposite Zr-B-C-N films with low compressive stress (0.6 GPa) and even higher electrical conductivity (resistivity of 1.7 microohmmeter) were deposited at the 45 % Zr fraction in the target erosion area and 5 % nitrogen fraction in the gas mixture. The former films exhibited very high oxidation resistance in air up to 650 Celsius degrees, while the latter to 550 Celsius degrees.
Klíčová slova

Zpět

Patička