Přejít k obsahu


Reactive deposition of zirconium dioxide films using high-power impulse magnetron sputtering

Citace: REZEK, J., VLČEK, J., HOUŠKA, J., ČERSTVÝ, R., KOZÁK, T., KOHOUT, J. Reactive deposition of zirconium dioxide films using high-power impulse magnetron sputtering. Strasbourg, Francie, 2013.
Druh: PŘEDNÁŠKA, POSTER
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Reactive deposition of zirconium dioxide films using high-power impulse magnetron sputtering
Rok vydání: 2013
Autoři: Ing. Jiří Rezek , Prof. RNDr. Jaroslav Vlček CSc. , Doc. Ing. Jiří Houška Ph.D. , Ing. Radomír Čerstvý , Ing. Tomáš Kozák Ph.D. , Mgr. Jiří Kohout
Abstrakt CZ: Vysokovýkonové pulzní reaktivní magnetronové naprašování bylo použito pro depozici opticky transparentních vrstev ZrO2. Depozice byly provedeny použitím silně nevyváženého magnetronu s planárním zirkoniovým terčem v argon-kyslíkové atmosféře. Byly použity dvě různé pozice napouštění kyslíku nad erozní zónou terče (směrem k terči a substrátu). Opakovací frekvence zdroje byla 500 Hz, průměrná výkonová hustota v periodě se měnila od 5 do 50 Wcm-2, střída od 2,5 do 10 %. Pro nízké hodnoty výkonové hustoty byly dosaženy obvyklé nízké depoziční rychlosti ~ 10 nm/min. Použití optimalizované pozice napouštění směrem k substrátu umožňovalo zvýšení kvality vrstev díky menšímu počtu oblouků na terči a zvýšení depoziční rychlosti až na 120 nm/min pro výkonovou hustotu 50 Wcm-2 a střídu 10 %. Extinkční koeficienty byly mezi 1x10E-4 a 5x10E-3 (na 550 nm). Budou prezentovány detaily depozičního procesu včetně energiově rozlišené hmotnostní spektroskopie na pozici substrátu.
Abstrakt EN: High-power impulse magnetron sputtering was used for the reactive deposition of zirconium dioxide films. Two different locations of the oxygen gas inlets above the target with opposite orientations were used. The repetition frequency of a pulsed dc power supply was 500 Hz at the average target power density up to 50 Wcm-2 in a period with duty cycles from 2.5 to 10%. Usual deposition rates, being around10 nm/min, were achieved for the target power density of 5 Wcm-2. An optimized location of the oxygen gas inlets above the target and their orientation to the substrate surface made it possible to improve quality of the films and to enhance their deposition rates up to 120 nm/min for the target power density of 50 Wcm-2 in a period. The zirconium dioxide films were found to be crystalline with a predominant monoclinic structure. Their extinction coefficient was between 1x10E-4 and 5x10E-3 (at 550 nm). Details of the deposition process, including an energy-resolved mass spectrometry at the substrate position will be presented.
Klíčová slova

Zpět

Patička