Přejít k obsahu


Molecular dynamics study of the growth of various crystalline phases of TiO2 and Al2O3

Citace: HOUŠKA, J., MRAZ, S., SCHNEIDER, J. M. Molecular dynamics study of the growth of various crystalline phases of TiO2 and Al2O3. Paříž, Francie, 2013.
Druh: PŘEDNÁŠKA, POSTER
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Molecular dynamics study of the growth of various crystalline phases of TiO2 and Al2O3
Rok vydání: 2013
Autoři: Doc. Ing. Jiří Houška Ph.D. , Stanislav Mraz , Jochen M. Schneider
Abstrakt CZ: Tenké vrstvy krystalických oxidů kovů jsou velmi zajímavé kvůli širokému spektru funkčních vlastností. V minulosti byla jejich příprava popsána pomocí "vnějších" parametrů jako je celkový tlak, parciální tlak kyslíku nebo předpětí na substrátech. V tomto příspěvku studujeme růst jednotlivých fází TiO2 (rutil a anatas) a Al2O3 (alfa a gama) pomocí kombinace magnetronového naprašování a simulací růstu atom po atomu pomocí molekulární dynamiky (>=3000 deponovaných atomů v jedné simulaci). Zaměřujeme se na efekt "vnitřních" parametrů jako je energie částic, teplota růstu a struktura substrátu. Významnou výhodou těchto simulací je oddělení nukleace a růstu. Výsledky umožňují proniknutí ke komplexním vztahům mezi procesními parametry a strukturou deponovaných filmů.
Abstrakt EN: Thin films of crystalline metal oxides are of high interest due to a wide range of functional properties. Previously, their preparation has been described in terms of extrinsic process parameters, such as total pressure, oxygen partial pressure or substrate bias potential. We study the growth of individual phases of TiO2 (rutile and anatase) and Al2O3 (alpha and gamma) using a combined approach of magnetron sputtering and atom-by-atom molecular dynamics simulations (>=3000 deposited atoms per simulation). We focus on the effect of intrinsic process parameters including particle energy, growth temperature and growth template. A particular advantage of these simulations is a disentanglement of the nucleation and the growth. The results provide an insight into the complex relationships between process parameters and deposited film structures.
Klíčová slova

Zpět

Patička