Přejít k obsahu


Microstructure of TiAlSiN Coatings Prepared by Cathodic arc PVD

Citace: SAVKOVÁ, J., BLÁHOVÁ, O. Microstructure of TiAlSiN Coatings Prepared by Cathodic arc PVD. In Metal 2013 : 22nd international conference on metallurgy and materials : conference proceedings. Ostrava: TANGER, 2013. s. 132. ISBN: 978-80-87294-39-0
Druh: STAŤ VE SBORNÍKU
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Microstructure of TiAlSiN Coatings Prepared by Cathodic arc PVD
Rok vydání: 2013
Místo konání: Ostrava
Název zdroje: TANGER
Autoři: Ing. Jarmila Savková , Doc. Ing. Olga Bláhová Ph.D.
Abstrakt CZ: Povlaky na bázi TiAlSiN byly deponovány za různých podmínek na nástrojové oceli pro práci za studena připravené práškovou metalurgií, metodou Cathodic Arc PVD na komerčním zařízení. XRD difrakce potvrdila přítomnost TiN a AlN krystalických fází. Tvrdost, morfologie a adheze je závislá na depozičních parametrech. Tvrdost a modul pružnosti připravených povlaků byl měřen na Nanoindenter XP, nejvyšší tvrdost (39.44GPa) vykazoval povlak s poměrem Al: Ti: Si 1:1:0.1.
Abstrakt EN: Films of TiAlSiN were deposited on cold working tool steel, prepared by powder metallurgy, substrates by a commercial cathodic arc-plasma deposition system. Presence of TiN and AlN crystal phase was found on films, but no XRD peaks related to Al and Si were found. Hardness, morphology and adhesion of films changed with different deposition parameters. Hardness and modulus of prepared coatings were measured by nanoindentation with Nanoindenter XP Maximum hardness (39.44GPa) of films was found on sample with ratio Al:Ti:Si 1:1:0.1.
Klíčová slova

Zpět

Patička