Přejít k obsahu


Preferred orientation control of ZnO polycrystalline films deposited by magnetron sputtering

Citace: NOVÁK, P., ŠUTTA, P., ŘÍHA, J., NETRVALOVÁ, M., MEDLÍN, R. Preferred orientation control of ZnO polycrystalline films deposited by magnetron sputtering. 2013.
Druh: POLOPROVOZ, TECHNOLOGIE, ODRŮDA, PLEMENO
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Preferred orientation control of ZnO polycrystalline films deposited by magnetron sputtering
Rok vydání: 2013
Název zdroje: Západočeská univerzita v Plzni
Autoři: Ing. Petr Novák Ph.D. , Doc. RNDr. Pavol Šutta Ph.D. , Ing. Jan Říha Ph.D. , Ing. Marie Netrvalová Ph.D. , Ing. Rostislav Medlín
Abstrakt CZ: Technologie využívá magnetronové naprašování a následné žíhání pro vytvoření polykryastalické ZnO vrstvy s určitou preferenční orientací krystalitů. Preferenční orientace je určena teplotou substrátu během depozice, energií iontů urychlených předpětí na rostoucí vrstvu. Následné žíhání slouží k odstranění pnutí a poruch, které vznikly v důsledku iontového bombardu. Výrobní postup byl ověřen rentgenovou difrakcí, která potvrdila přednostní orientaci výsledné vrstvy.
Abstrakt EN: Magnetron sputtering and subsequent annealing are used for preparing polycrystalline ZnO films with specific preferred orientation of the crystallites. The preferred orientation is determined by the substrate temperature during deposition and energy of ions accelerated by bias to the growth film. Subsequent annealing is used to eliminate tension and defects which arose as result of causes by iont bombardment. The production procedure was verified by X-ray diffraction, which confirmed the preferential orientation of the resulting ZnO film.
Klíčová slova

Zpět

Patička