Přejít k obsahu


Exothermic formation of γ-TiAl phase in Ti/Al multilayer films prepared by magnetron sputtering

Citace: ZUZJAKOVÁ, Š., STUPKA, P., ZEMAN, P., ČERSTVÝ, R., MUSIL, J. Exothermic formation of ?-TiAl phase in Ti/Al multilayer films prepared by magnetron sputtering. Espoo, Finsko, 2014.
Druh: PŘEDNÁŠKA, POSTER
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Exothermic formation of ?-TiAl phase in Ti/Al multilayer films prepared by magnetron sputtering
Rok vydání: 2014
Autoři: Ing. Šárka Zuzjaková , Ing. Petr Stupka , Doc. Ing. Petr Zeman Ph.D. , Ing. Radomír Čerstvý , Prof. Ing. Jindřich Musil DrSc.
Abstrakt CZ: V této práci je vyšetřován vliv tloušťky dvojvrstvy Ti/Al na teplotu a množství uvolněného tepla při vytváření ?-TiAl z multivrstev Ti/Al. Multivrstvy Ti/Al byly připraveny dc magnetronovým naprašováním. Pomocí diferenciální skenovací kalorimetrie a rentgenové difrakce bylo zjistěno, že se multivrstvy Ti/Al během ohřevu na 800 °C v nereaktivní atmosféře nezávisle na tloušťce dvojvrstvy Ti/Al transformují do ?-TiAl. V případě, že je tloušťka dvojvrstvy Ti/Al větší nebo rovna 40 nm, lze během ohřevu pozorovat dva exotermické píky, zatímco během ohřevu vrstvy s periodou nižší než 40 nm lze pozorovat pouze jeden exotermický pík. Nejnižší teploty, při které se multivrstva přetransformovala do ?-TiAl, bylo dosaženo u multivrstvy s tloušťkou dvojvrstvy 17 nm (390 °C).
Abstrakt EN: The present work focuses on the effect of the Ti/Al bilayer period on the transformation temperature and the amount of the heat released from the multilayer Ti/Al film during the ?-TiAl formation. The Ti/Al multilayer films were deposited by dc magnetron sputtering. Using differential scanning calorimetry and X-ray diffraction, it was found that all the Ti/Al multilayer films transform into the ?-TiAl structure during annealing to 800 °C in inert atmosphere, independently of the bilayer period. However, the character of the transformation process strongly depends on the bilayer period. In case of the films with the bilayer period of 40 nm and higher, two exothermic reactions preceded the formation of the ?-TiAl phase, while in the films with the bilayer period lower than 40 nm only one exothermic peak was detected. Furthermore, the lowest transformation temperature of 390 °C for the ?-TiAl structure formation was achieved during annealing of the film with the bilayer period of 17 nm.
Klíčová slova

Zpět

Patička