Přejít k obsahu


Surface morphology and crystalline structure of sequentially sputtered ZnO nanocoatings

Citace: NOVOTNÝ, I., FLICKYNGEROVÁ, S., TVAROŽEK, V., ŠUTTA, P., NETRVALOVÁ, M., ROSSBERG, D., SCHAAF, P. Surface morphology and crystalline structure of sequentially sputtered ZnO nanocoatings. Applied Surface Science, 2014, roč. 312, č. září 2014, s. 167-171. ISSN: 0169-4332
Druh: ČLÁNEK
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Surface morphology and crystalline structure of sequentially sputtered ZnO nanocoatings
Rok vydání: 2014
Autoři: I Novotný , S. Flickyngerová , V. Tvarožek , Doc. RNDr. Pavol Šutta Ph.D. , Ing. Marie Netrvalová Ph.D. , D. Rossberg , P. Schaaf
Abstrakt CZ: Technologie sekvenčního naprašování byla vyvíjena pro vytváření transparentních vodivých ultratenkých vrstev ZnO (dopovaných Al, Ga) s tloušťkami okolo 100nm. Při porovnání kontinuálního a sekvenčního depozičního módu, pozdější preferenční kolumnární uspořádání ve směru [100] se zvýšilo, snížila se zrnitost a krystalová velikost (25 nm/40 nm a 33 nm/47 nm), gradient mřížkového napětí (0.147 GPa nm?1 /0.180 GPa nm?1) a micronapětí (8.4×10?3%) a /5.6×10?3 ), zvýšila se propustnost ve viditelné a blízké infračervené oblasti (nad 80%) a snížil se index lomu (hodnota pod 2).
Abstrakt EN: The sequential sputtering technology was developed for the formation of transparent and conductive ZnO ultrathin ?lms (doped by Al, Ga) of thicknesses about 100 nm. When comparing continuous and sequential deposition modes, the latter increased the preferential [001] columnar texture of ZnO:(Ga, Al) ?lms, lowered their grain and crystallite sizes (25 nm/40 nm and 33 nm/47 nm), lattice stress gradients (0.147 GPa nm?1 /0.180 GPa nm?1) and microstrains (8.4×10?3 /5.6×10?3 ), rose their transmittance in Vis/NIR region (above 80%) and decreased their refractive index (values below 2).
Klíčová slova

Zpět

Patička