Přejít k obsahu


Self-texture control of Zno films prepared by reactive RF magnetron sputtering

Citace:
NOVÁK, P., ŠUTTA, P., NETRVALOVÁ, M., ŘÍHA, J., MEDLÍN, R. Self-texture control of Zno films prepared by reactive RF magnetron sputtering. In Key Engineering Materials. Stafa-Zurich: Trans Tech Publications LTD, 2014. s. 219-222. ISBN: 978-3-03835-051-4 , ISSN: 1013-9826
Druh: STAŤ VE SBORNÍKU
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Self-texture control of Zno films prepared by reactive RF magnetron sputtering
Rok vydání: 2014
Místo konání: Stafa-Zurich
Název zdroje: Trans Tech Publications LTD
Autoři: Ing. Petr Novák Ph.D. , Doc. RNDr. Pavol Šutta Ph.D. , Ing. Marie Netrvalová Ph.D. , Ing. Jan Říha Ph.D. , Ing. Rostislav Medlín
Abstrakt CZ: Vrstvy oxidu zinečnatého (ZnO) se využívají v mnoha oblastech, jakými jsou biosenzory nebo akustické rezonační zařízení. Vrstvy ZnO standardně krystalizuji ve Wurtzitové struktuře s preferenční orientací (001) kolmo k substrátu. Nicméně pro některébio-senzory využívané ve vodě je důležité generovat povrchové akustické vlny. Pry tyto aplikace jsou východné jiné preferenční orientace. Tato práce byla zaměřena na řízení preferenční orientace krystalitů při RF magnetronovém naprašování. Byly nalezeny tři oblasti parametrů depozice, při kterých vznikají vrstvy s různou preferenční orientací. Struktura vrstev byla následně zlepšována žíháním.
Abstrakt EN: Zinc Oxide (ZnO) is a wide bandgap semiconductor material which can be successfully used for wide variety of potential applications such as biosensors or acoustic resonator devices. ZnO normally crystallizes in the wurtzite structure with c-axis (001) preferred orientation. However, for bio-sensing in liquids, it is necessary to generate a shear horizontal mode wave, where the wave displacement is within the plane of the crystal surface. For generation of such a shear horizontal wave, a-axis film textures such as the (110) or (100) is necessary. This work is focused on the preferred orientation control of ZnO film prepared by RF magnetron sputtering. It is found that preferred orientation can be controlled by substrate bias and substrate temperature during deposition without the use of expensive crystalline substrates. There are three areas of operating parameters when the structure of the ZnO films is dominated by different preferred orientation. Moreover, the film annealing was performed to enhance the film structure.
Klíčová slova

Zpět

Patička