Přejít k obsahu


Effect of energy on texture and enhanced resistance to cracking of sputter deposited Ti(Ni)Nx and Ti(Al,V)Nx films

Citace:
JAROŠ, M., MUSIL, J., ČERSTVÝ, R., HAVIAR, S. Effect of energy on texture and enhanced resistance to cracking of sputter deposited Ti(Ni)Nx and Ti(Al,V)Nx films. Paříž, Francie, 2015.
Druh: PŘEDNÁŠKA, POSTER
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Effect of energy on texture and enhanced resistance to cracking of sputter deposited Ti(Ni)Nx and Ti(Al,V)Nx films
Rok vydání: 2015
Autoři: Ing. Martin Jaroš , Prof. Ing. Jindřich Musil DrSc. , Ing. Radomír Čerstvý , RNDr. Stanislav Haviar Ph.D.
Abstrakt CZ: Tato studie se zabývá texturou a mechanickými vlastnostmi vrstev Ti(Ni)Nx a Ti(Al,V)Nx připravených magnetronovým naprašováním a jejich odolností proti vzniku trhlin při ohybu. Bylo zjištěno, že: (1) přednostní orientace vrstev závisí na energii Ebi dodané do vrstvy. Se zvyšující se energií Ebi dochází ke změně textury z (i) TiN(220) ? TiN(111) +TiN(200) ? TiN(220) u vrstev Ti(Ni)Nx a (ii) TiN(200) ? TiN(220) ? TiN(111) + TiN(220) u vrstev Ti(Al,V)Nx. (2) Ti(Al,V)Nx a Ti(Ni)Nx vrstvy s nízkou odolností proti vzniku trhlin jsou připraveny při nižší hodnotě energie Ebi < 1,5 MJ/cm^3 a vykazují (i) nízký poměr H/E* ? 0,1, nízkou elastickou vratnost We ? 65 % a tlakové pnutí, (ii) jsou tvořeny zrny obsahujícími TiN(200) a vykazujícími sloupcovou strukturu. (3) Ti(Al,V)Nx a Ti(Ni)Nx vrstvy se zvýšenou odolností proti vzniku trhlin jsou připraveny při vyšší hodnotě energie Ebi > 3,7 MJ/cm^3 a vykazují (i) vysoký poměr H/E* > 0,1, vysokou elastickou vratnost We > 65 % a tlakové pnutí, (ii) jsou tvořeny zrny, která neobsahují TiN(200) a vykazují hustou strukturu (bez dutin).
Abstrakt EN: The paper reports on the texture (preferred orientation) and mechanical properties of magnetron sputtered Ti(Ni)Nx and Ti(Al,V)Nx films and their resistance to cracking in bending. It was found that: (1) the preferred orientation of sputtered films depends on energy Ebi delivered to the film during its growth. The texture continuously changes from (i) TiN(220) ? TiN(111) +TiN(200) ? TiN(220) for Ti(Ni)Nx films and (ii) TiN(200) ? TiN(220) ? TiN(111) + TiN(220) for Ti(Al,V)Nx nitride films with increasing Ebi. (2) The Ti(Al,V)Nx and Ti(Ni)Nx nitride films with low resistance to cracking are prepared at lower value of Ebi < 1.5 MJ/cm^3 and exhibit (i) low ratio H/E* ? 0.1, low elastic recovery We ? 65%, compressive macrostress and (ii) are composed of grains contain TiN(200) and show a columnar structure. (3) Both the Ti(Al,V)Nx and Ti(Ni)Nx nitride films with enhanced resistance to cracking are prepared at higher value of Ebi > 3.7 MJ/cm^3 and exhibit (i) high ratio H/E* > 0.1, high elastic recovery We > 65%, compressive macrostress and (ii) are composed of grains witch do not contain TiN(200) and show a dense (voids free) structure.
Klíčová slova

Zpět

Patička