Přejít k obsahu


Reactive high-power impulse magnetron sputtering of thermochromic VO2 films at low deposition temperatures

Citace:
KOLENATÝ, D., HOUŠKA, J., REZEK, J., ČERSTVÝ, R., VLČEK, J. Reactive high-power impulse magnetron sputtering of thermochromic VO2 films at low deposition temperatures. Paříž, Francie, 2015.
Druh: PŘEDNÁŠKA, POSTER
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Reactive high-power impulse magnetron sputtering of thermochromic VO2 films at low deposition temperatures
Rok vydání: 2015
Autoři: Ing. David Kolenatý , Doc. Ing. Jiří Houška Ph.D. , Ing. Jiří Rezek Ph.D. , Ing. Radomír Čerstvý , Prof. RNDr. Jaroslav Vlček CSc.
Abstrakt CZ: Vysokovýkonové magnetronové naprašování s pulzním řízením reaktivního plynu bylo použito pro depozici termochromických vrstev VO2 (o tloušťce 100 nm) na křemíkový substrát na plovoucím potenciálu při depozičních teplotách, Ts, 250?400 °C. Fázové složení VO2 vrstev bylo určeno analytickou metodou XRD a Ramanovou spektroskopií. Termochromický jev VO2 vrstev byl vyšetřen spektroskopickou elipsometrií s použitím vyhřívaného stolku. Optické konstanty (index lomu, n, a extinkční koeficient, k) byly získány z elipsometrických dat. Dále byly tyto optické konstanty použity pro výpočet transmitance stejného materiálu na skleněném substrátu. VO2 vrstvy připravené při délce pulzu 80 ?s vykazovaly velmi nízký extinkční koeficient pro vlnovou délku 550 nm při pokojové teplotě. Vrstvy vykazovaly vysokou infračervenou modulaci, perfektní reverzibilitu termochromického chování a sníženou přechodovou teplotu (54 °C) oproti objemovému VO2 (68 °C).
Abstrakt EN: High-power impulse magnetron sputtering with a pulsed reactive gas (oxygen) flow control was used for depositions of thermochromic VO2 films (100 nm thick) onto floating Si substrates at the temperatures, Ts, of 250?400 °C. The phase composition of the VO2 films was determined by X-ray diffraction and Raman spectroscopy. The thermochromic behaviour of the VO2 films was investigated using a spectroscopic ellipsometer equipped with a heat stage. The optical constants (refractive index, n, and extinction coefficient, k) were obtained from the ellipsometric data. Moreover, the optical constants (measured on Si substrates) were used to predict transmittance of the same materials on glass substrates. The VO2 films prepared at the voltage pulse duration of 80 ?s exhibit very low room-temperature k at 550 nm. The films exhibit a high infrared modulation, perfect reversibility of the thermochromic behaviour and a lower transition temperature (54 °C) than the bulk VO2 (68 °C).
Klíčová slova

Zpět

Patička