Přejít k obsahu


Principy a aplikace reaktivní magnetronové depozice

Citace:
ČAPEK, J. Principy a aplikace reaktivní magnetronové depozice. Bořetice, 2016.
Druh: PŘEDNÁŠKA, POSTER
Jazyk publikace: cze
Anglický název: The principles and application of reactive magnetron deposition
Rok vydání: 2016
Autoři: Ing. Jiří Čapek Ph.D.
Abstrakt CZ: Přednáška se podrobně zabývá základními principy a problémy reaktivní magnetronové depozice vodivých i nevodivých tenkovrstvých materiálů. Následně jsou diskutovány možnosti a výhody jednotlivých technik reaktivní depozice ? DC, RF, magnetronové, pulzní DC a vysokovýkonové pulzní magnetronové naprašování (HiPIMS). Dále jsou popisovány i různé způsoby řízení reaktivní depozice (např. řízení na konstantní průtok, parciální tlak nebo napětí na terči).
Abstrakt EN: The lecture offers a discussion of basic principles and issues in reactive sputter deposition of conducting and insulating thin films. Consequently, various deposition approaches used in reactive sputtering ? dc, rf, magnetron, pulsed dc, and high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) are discussed and compared. Moreover, process control strategies (e.g., flow rate, partial pressure, and target voltage) and their implementation are described in detail.
Klíčová slova

Zpět

Patička