Přejít k obsahu


Flexible hard Ti-based nitride films with enhanced resistance to cracking

Citace:
JAROŠ, M., MUSIL, J., ČERSTVÝ, R., HAVIAR, S. Flexible hard Ti-based nitride films with enhanced resistance to cracking. Praha, 2016.
Druh: PŘEDNÁŠKA, POSTER
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Flexible hard Ti-based nitride films with enhanced resistance to cracking
Rok vydání: 2016
Autoři: Ing. Martin Jaroš , Prof. Ing. Jindřich Musil DrSc. , Ing. Radomír Čerstvý , RNDr. Stanislav Haviar Ph.D.
Abstrakt CZ: Přednáška pojednává o vývoji textury a mechanických vlastností tenkovrstvých materiálů Ti(Ni)Nx a Ti(Al,V)Nx a jejich odolnosti proti vzniku trhlin. Vrstvy byly deponovány na křemíkové a molybdenové substráty ve směsi argonu a dusíku. Textura, struktura, makropnutí, mechanické vlastnosti vrstev a jejich odolnost proti vzniku trhlin byly zjišťovány (i) rentgenovou difrakcí, (ii) skenovacím elektronovým mikroskopem, (iii) z průhybu křemíkového substrátu (iv) indentačním testem a (v) ohybovým testem. Bylo zjištěno, že textura je silně závislá na množství energie Ebi dodané do vrstvy dopadajícími ionty a se zvýšením této energie dochází k přechodu od TiN(200) k TiN(111) + TiN(220). Vrstvy, které byly deponovány při větší energii Ebi, vykazují H/E* > 0,1, We > 65 %, tlakové makropnutí a zvýšenou odolnost proti vzniku trhlin.
Abstrakt EN: The paper reports on the texture and mechanical properties of magnetron sputtered Ti(Ni)Nx and Ti(Al,V)Nx films and their resistance to cracking in bending. The films were reactively sputtered on Si(111) plate and Mo strips in a mixture of Ar+N2 gases. The preferred orientation, structure, macrostress, mechanical properties, of Ti(Ni)Nx and Ti(Al,V)Nx films and theirs resistance to cracking in bending were characterized by (i) the X-ray diffraction, (ii) Scanning Electron Microscope, (iii) the bending of Si(111) plate, (iv) the diamond indentation test and (v) the bending test, respectively. It was found that: (1) the preferred orientation of nitride films depends on energy delivered to the film by bombarding ions Ebi. The texture continuously changes from TiN(200) toTiN(111) + TiN(220) nitride films with increasing Ebi. (2) The nitride films with enhanced resistance to cracking are prepared at higher value of Ebi and exhibit high ratio H/E* > 0.1, high elastic recovery We > 65% and compressive macrostress.
Klíčová slova

Zpět

Patička