Přejít k obsahu


Effect of energy on the formation of flexible hard Al-Si-N films prepared by magnetron sputtering

Citace:
MUSIL, J., JAVDOŠŇÁK, D., ČERSTVÝ, R., HAVIAR, S., REMENEV, G., UGLOV, V. Effect of energy on the formation of flexible hard Al-Si-N films prepared by magnetron sputtering. Vacuum, 2016, roč. 133, č. 1 November 2016, s. 43-45. ISSN: 0042-207X
Druh: ČLÁNEK
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Effect of energy on the formation of flexible hard Al-Si-N films prepared by magnetron sputtering
Rok vydání: 2016
Autoři: Prof. Ing. Jindřich Musil DrSc. , Ing. Daniel Javdošňák , Ing. Radomír Čerstvý , RNDr. Stanislav Haviar Ph.D. , Gennady Remenev , Vladimir Uglov
Abstrakt CZ: Článek pojednává o mechanických a optických vlastnostech tenkých vrstev Al-Si-N s nízkým obsahem Si ve vrstvě (< 5 at. %), připravených AC pulzním reaktivním magnetronovým naprašováním. Detailně byl zkoumán vliv energie Ebi dodané do vrstvy dopadajícími ionty na její vlastnosti. Bylo zjištěno, že Al-Si-N vrstvy jsou krystalické, vysoce elastické a opticky transparentní a vykazují (i) sloupcovou strukturu a nízkou odolnost proti vzniku trhlin při nízké energii Ebi a (ii) hustou strukturu bez mezer a zvýšenou odolnost proti vzniku trhlin při vysoké energii Ebi.
Abstrakt EN: The article reports on mechanical and optical properties of Al-Si-N films with a low Si content (< 5 at.%) deposited by ac pulsed reactive magnetron sputtering. The effect of the energy Ebi delivered in the growing film by bombarding ions on the properties of Al-Si-N films was investigated in detail. It was found that the Al-Si-N films are crystalline, highly elastic and optically transparent, and exhibit (i) the columnar microstructure and low resistance to cracking when sputtered at low energy Ebi, (ii) the dense, voids-free microstructure and the enhanced resistance to cracking when sputtered at high energy Ebi.
Klíčová slova

Zpět

Patička