Přejít k obsahu


Amorphous Zr-Cu Metallic Alloys Prepared by Magnetron Co-Sputtering

Citace:
ZEMAN, P., ZÍTEK, M., ZUZJAKOVÁ, Š., ČERSTVÝ, R., HAVIAR, S. Amorphous Zr-Cu Metallic Alloys Prepared by Magnetron Co-Sputtering. Garmisch-Partenkirchen, Německo, 2016.
Druh: PŘEDNÁŠKA, POSTER
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Amorphous Zr-Cu Metallic Alloys Prepared by Magnetron Co-Sputtering
Rok vydání: 2016
Autoři: Doc. Ing. Petr Zeman Ph.D. , Ing. Michal Zítek , Ing. Šárka Zuzjaková Ph.D. , Ing. Radomír Čerstvý , RNDr. Stanislav Haviar Ph.D.
Abstrakt CZ: Tato studie je zaměřena na přípravu amorfních kovových slitin ze systému Zr-Cu pomocí nereaktivního magnetronového naprašování a na vyšetřování vlivu prvkového složení a procesních parametrů na vlastnosti vrstev. Vrstvy Zr-Cu byly deponovány v argonu použitím magnetronu s terčem Zr pracujícím ve stejnosměrném režimu a magnetronu s terčem Cu pracujícím v pulzním režimu, a to buď v nízkovýkonovém nebo vysokovýkonovém módu. Bylo zjištěno, že amorfní vrstvy Zr-Cu mohou být připraveny v širokém rozsahu prvkového složení (18?90 at.% Cu). Skelný přechod byl však pozorován jen v užším intervalu prvkového složení (30?65 at.% Cu). Rostoucí obsah Cu ve vrstvách vede (a) k poklesu vzdálenosti nejbližších atomů, (b) k nárůstu tvrdosti dosahující maximum (~ 7 GPa) při 70 at.% Cu a (c) k nárůstu krystalizační teploty. Kromě toho vrstvy vykazují velmi hladký (drsnost < 1 nm) a hydrofobní (kontaktní úhel > 100°) povrch.
Abstrakt EN: The present work is focused on preparation of amorphous metallic alloys from the Zr-Cu system by non-reactive magnetron co-sputtering and investigation of the effect of the elemental composition and process parameters on film properties. The Zr-Cu films were deposited in argon using 2 magnetrons equipped with a Zr and Cu target. The magnetron with the Zr target was operated in a dc regime while the Cu magnetron in a pulse regime either at low or high density discharge conditions. It was shown that amorphous Zr-Cu films can be prepared in a very wide composition range (18?90 at.% Cu). The glass transition is, however, observed only in a limited composition interval (30?65 at.% Cu). The increasing Cu content in the films results in (a) a reduction of the nearest-neighbor distance of atoms, (b) an increase of the hardness reaching a maximum (~ 7 GPa) at 70 at.% Cu, and (c) an increase of the crystallization temperature. In addition, the films exhibit very smooth (roughness < 1 nm) and hydrophobic (contact angle > 100°) surface.
Klíčová slova

Zpět

Patička