Přejít k obsahu


Effect of energy on the formation of flexible hard Al-Si-N films prepared by magnetron sputtering

Citace:
JAVDOŠŇÁK, D., MUSIL, J., ČERSTVÝ, R., HAVIAR, S. Effect of energy on the formation of flexible hard Al-Si-N films prepared by magnetron sputtering. Gent, Belgie, 2016.
Druh: PŘEDNÁŠKA, POSTER
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Effect of energy on the formation of flexible hard Al-Si-N films prepared by magnetron sputtering
Rok vydání: 2016
Autoři: Ing. Daniel Javdošňák , Prof. Ing. Jindřich Musil DrSc. , Ing. Radomír Čerstvý , RNDr. Stanislav Haviar Ph.D.
Abstrakt CZ: Poster pojednává o mechanických a optických vlastnostech tenkých vrstev Al?Si?N s nižším obsahem Si ve vrstvě (< 5 at. %), připravených AC pulzním reaktivním magnetronovým naprašováním. Byl zde ukázán vliv energie Ebi iontů bombardujících rostoucí vrstvu Al?Si?N. Zjistilo se, že Al?Si?N vrstvy jsou krystalické, vysoce elastické a opticky transparentní. Vykazují (i) sloupcovou strukturu a nízkou odolnost proti vzniku trhlin při nízké hodnotě Ebi a (ii) strukturu bez sloupců a dutin a zvýšenou odolnost vůči vzniku trhlin při vysoké hodnotě Ebi.
Abstrakt EN: The poster reports on mechanical and optical properties of Al-Si-N films with a low Si content (<5 at.%) deposited by ac pulsed reactive magnetron sputtering. The effect of the energy Ebi delivered in the growing film by bombarding ions on the properties of Al-Si-N films was investigated in detail. It was found that the Al-Si-N films are crystalline, highly elastic and optically transparent, and exhibit (i) the columnar microstructure and low resistance to cracking when sputtered at low Ebi, (ii) the non-columnar, voids-free microstructure and the enhanced resistance to cracking when sputtered at high Ebi.
Klíčová slova

Zpět

Patička