Přejít k obsahu


Characterization of high-power pulsed dc magnetron discharges for ionized high-rate sputtering of metallic films

Citace: [] VLČEK, J., PAJDAROVÁ, A., BĚLSKÝ, P., LUKÁŠ, J., KUDLÁČEK, P., MUSIL, J. Characterization of high-power pulsed dc magnetron discharges for ionized high-rate sputtering of metallic films. In Plasmatechnologie. Braunschweig: Digitaldruck und Einband - Buchbinderei Wolfram Schmidt, 2005. s. 35-35.
Druh: STAŤ VE SBORNÍKU
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Characterization of high-power pulsed dc magnetron discharges for ionized high-rate sputtering of metallic films
Rok vydání: 2005
Místo konání: Braunschweig
Název zdroje: Digitaldruck und Einband - Buchbinderei Wolfram Schmidt
Autoři: Prof. RNDr. Jaroslav Vlček CSc. , Mgr. Andrea Dag Pajdarová Ph.D. , Petr Bělský , Ing. Jan Lukáš , Ing. Pavel Kudláček , Prof. Ing. Jindřich Musil DrSc.
Abstrakt CZ: Vysokovýkonové pulzní dc magnetronové výboje byly systematicky zkoumány využitím plasmových diagnostik s časovým rozlišením (optická emisní spektroskopie, hmotnostní spektroskopie s energetickým rozlišením a Langmuirova sonda) při depozicích kovových (měděných) vrstev.
Abstrakt EN: High-power pulsed dc magnetron discharges for ionized high-rate sputtering of metallic films were systematically investigated. The depositions were performed using an unbalanced circular magnetron with a directly water-cooled planar copper or titanium target of 100 mm in diameter.
Klíčová slova

Zpět

Patička