Přejít k obsahu


Properties of magnetron sputtered Al-Si-N thin films with a low and high Si content

Citace: [] MUSIL, J., ŠAŠEK, M., ZEMAN, P., ČERSTVÝ, R., HEŘMAN, D., HAN, J., ŠATAVA, V. Properties of magnetron sputtered Al-Si-N thin films with a low and high Si content. Surface and Coatings Technology, 2008, roč. 202, č. 15, s. 3485-3493. ISSN: 0257-8972
Druh: ČLÁNEK
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Properties of magnetron sputtered Al-Si-N thin films with a low and high Si content
Rok vydání: 2008
Autoři: Jindřich Musil , Martin Šašek , Petr Zeman , Radomír Čerstvý , David Heřman , J.G. Han , Václav Šatava
Abstrakt CZ: Článek se zabývá tenkými vrstvami Al-Si-N s nízkým a vysokým obsahem Si připravených ac pulzním duálním magnetronovým systémem s uzavřeným magnetickým polem. Vrstvy byly připraveny ze skládaných Si/Al terčů. Hlavní důraz byl kladen na vztah mezi strukturou vrstev a jejich mechanickými vlastnostmi, teplotní stabilitou tvrdosti a oxidační odolností. Mezi hlavní výsledky patří zjištění, že vrstvy dosahují tvrdosti mezi 21 a 25 GPa, oxidační odolnost vrstev přesahuje 1000°C tvrdost amorfních Al-Si-N vrstev se nemění po 4 hod. žíhání ve vzduchu při teplotě 1100°C.
Abstrakt EN: The article reports on properties of Al-Si-N films with a low and high Si content reactively sputtered using a closed magnetic field dual magnetron system operated in ac pulse mode. The films were sputtered from a composed target. Main attention was devoted to the investigation of a relationship between the structure of the films and their mechanical properties, thermal stability of hardness, and oxidation resistance.
Klíčová slova

Zpět

Patička