Přejít k obsahu


High-Rate Reactive Deposition of Transparent Zirconium Dioxide Films Using High-Power Pulsed DC Magnetron Sputtering

Citace: [] VLČEK, J., REZEK, J., LAZAR, J., HOUŠKA, J., ČERSTVÝ, R. High-Rate Reactive Deposition of Transparent Zirconium Dioxide Films Using High-Power Pulsed DC Magnetron Sputtering. In 54th Annual Technical Conference Proceedings. Chicago: Society of Vacuum Coaters, 2011. s. 131-134. ISBN: neuveden , ISSN: 0737-5921
Druh: STAŤ VE SBORNÍKU
Jazyk publikace: eng
Anglický název: High-Rate Reactive Deposition of Transparent Zirconium Dioxide Films Using High-Power Pulsed DC Magnetron Sputtering
Rok vydání: 2011
Místo konání: Chicago
Název zdroje: Society of Vacuum Coaters
Autoři: Prof. RNDr. Jaroslav Vlček CSc. , Ing. Jiří Rezek , Ing. Jan Lazar , Ing. Jiří Houška Ph.D. , Ing. Radomír Čerstvý ,
Abstrakt CZ: Vysokovýkonové pulzní dc magnetronové naprašování bylo společně s efektivní kontrolou toku reaktivního plynu použito pro reaktivní depozici transparentních filmů oxidu zirkoničitého. Depozice byly provedeny použitím silně nevyváženého magnetronu s rovinným zirkoniovým terčem o průměru 100 mm v argon-kyslíkové atmosféře při tlaku argonu 2 Pa. Opakovací frekvence zdroje byla 500 Hz při střídě od 2,5 do 10%. Teplota substrátu během depozice byla nižší než 300 stupňů Celsia a filmy byly připraveny na plovoucím potenciálu ve vzdálenosti 100 mm od terče. Nárůst průměrné terčové výkonové hustoty v periodě z 5 na 100 wattů na čtvereční centimetr při konstantní střídě 10% měl za následek rapidní nárůst depoziční rychlosti z 11 na 73 nm/min.
Abstrakt EN: High-power pulsed dc magnetron sputtering with an effective reactive gas flow control, developed by us, was used for the reactive deposition of transparent zirconium dioxide films. The depositions were performed using a strongly unbalanced magnetron with a planar zirconium target of 100 mm diameter in argon-oxygen gas mixtures at the argon pressure of 2 Pa. The repetition frequency was 500 Hz at duty cycles ranging from 2.5% to 10%. The substrate temperatures were less than 300 degrees of Celsius during the depositions of films on a floating substrate at the distance of 100 mm from the target. The increase in the average target power density from 5 to 100 watts per square centimeter in a period at the same duty cycle of 10% resulted in a rapid rise in the deposition rate from 11 nm/min to 73 nm/min.
Klíčová slova

Zpět

Patička