Přejít k obsahu


Mechanical and optical properties of quaternary Si-B-C-N films prepared by reactive magnetron sputtering

Citace: [] ČÍŽEK, J., VLČEK, J., POTOCKÝ, Š., HOUŠKA, J., SOUKUP, Z., KALAŠ, J., JEDRZEJOWSKI, P., KLEMBERG-SAPIEHA, J., MARTINŮ, L. Mechanical and optical properties of quaternary Si-B-C-N films prepared by reactive magnetron sputtering. Thin Solid Films, 2008, roč. 516, č. 21, s. 7286-7293. ISSN: 0040-6090
Druh: ČLÁNEK
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Mechanical and optical properties of quaternary Si-B-C-N films prepared by reactive magnetron sputtering
Rok vydání: 2008
Autoři: Jiří Čížek , Jaroslav Vlček , Štěpán Potocký , Jiří Houška , Zbyněk Soukup , Jiří Kalaš , P. Jedrzejowski , J.E. Klemberg-Sapieha , Ludvík Martinů
Abstrakt CZ: Metodou reaktivního magnetronového naprašování byly připraveny vrstvy systému Si-B-C-N. Práce se zaměřuje na hledání vztahů mezi procesními parametry, prvkovým složením, vazebnou strukturou a mechanickými, tribologickými a optickými vlastnostmi připravených materiálů. Vrstvy vykazují vysokou tvrdost (do 36 GPa), dobrou adhezi k substrátu Si(100) při nízkém tlakovém pnutí (1.0-1.6 GPa), index lomu od 1.8 do 2.2 (při 550 nm) a extinkční koeficient od 2 × 10"4 do 0.3. Díky těmto vlastnostem jsou vrstvy Si-B-C-N vhodné pro použití v tribologických a optoelektronických aplikacích.
Abstrakt EN: Quaternary Si-B-C-N films were prepared using reactive direct current magnetron co-sputtering. We focused on complex relationships between process parameters, elemental composition, bonding structure, and mechanical, tribological and optical properties of the deposited materials. The films exhibit a high hardness (up to 36 GPa) and a good adhesion to Si(100) substrates at a low compressive stress (1.0-1.6 GPa), refractive index ranging from 1.8 to 2.2 (at 550 nm) and an extinction coefficient between 2 × 10"4 and 0.3. The Si-B-C-N films appear attractive for both tribological and optoelectronic applications.
Klíčová slova

Zpět

Patička