Přejít k obsahu


Formation of crystalline Al-Ti-O thin films and their properties

Citace: [] MUSIL, J., ŠATAVA, V., ČERSTVÝ, R., ZEMAN, P., TÖLG, T. Formation of crystalline Al-Ti-O thin films and their properties. Surface and Coatings Technology, 2008, roč. 202, č. 24, s. 6064-6069. ISSN: 0257-8972
Druh: ČLÁNEK
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Formation of crystalline Al-Ti-O thin films and their properties
Rok vydání: 2008
Autoři: Jindřich Musil , Václav Šatava , Radomír Čerstvý , Petr Zeman , Tomáš Tölg
Abstrakt CZ: Článek popisuje vliv příměsi Ti do Al2O3 vrstev na jejich strukturu, mechanické vlastnosti a oxidační odolnost. Hlavní cíl výzkumu bylo připravit krystalické Al-Ti-O vrstvy při teplotě substrátu Ts"500 °C. Vrstvy se třemi rozdílnými složeními (41, 43 and 67 mol.% Al2O3) byly reaktivně naprašovány ze složeného Al/Ti terče a jejich vlastnosti byly charakterizovány rentgenovou difrakcí (XRD), rentgen-fluorescenční spektroskopií (XRF), mikrotvrdoměrem a termogravimetrickou analýzou (TGA).
Abstrakt EN: The article reports on the effect of addition of Ti into Al2O3 films with Ti on their structure, mechanical properties and oxidation resistance. The main aim of the investigation was to prepare crystalline Al-Ti-O films at substrate temperatures Ts"500 °C. The films with three different compositions (41, 43 and 67 mol.% Al2O3) were reactively sputtered from a composed Al/Ti target and their properties were characterized using X-Ray diffraction (XRD), X-ray fluorescent spectroscopy (XRF), microhardness testing, and thermogravimetric analysis (TGA).
Klíčová slova

Zpět

Patička