Přejít k obsahu


Nanostructure of Photocatalytic TiO2 Films Sputtered at Temperatures below 200°C

Citace: [] MEISSNER, M., ŠÍCHA, J., MUSIL, J., ČERSTVÝ, R. Nanostructure of Photocatalytic TiO2 Films Sputtered at Temperatures below 200°C. In Programme and Abstracts. Praha: České vysoké učení technické, 2008. s. 159-160. ISBN: 978-80-01-04030-0
Druh: STAŤ VE SBORNÍKU
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Nanostructure of Photocatalytic TiO2 Films Sputtered at Temperatures below 200°C
Rok vydání: 2008
Místo konání: Praha
Název zdroje: České vysoké učení technické
Autoři: Michal Meissner , Jan Šícha , Jindřich Musil , Radomír Čerstvý
Abstrakt CZ: Článek se věnuje podrobné studii korelací mezi depozičními parametry procesu pulzní reaktivní duální magnetronové depozice vrstev TiO2 deponovaných při teplotě T pod 180°C, jejich fyzikálními vlastnostmi a fotoaktivitou. Byly prezentovány možnosti přípravy krystalických fotoaktivních vrstev bez nutnosti jejich post-depozičního žíhání a bylo ukázáno, že parciální tlak kyslíku a celkový tlak směsi Ar+O2 jsou klíčovými parametry ovlivňujícími vlastnosti deponovaných vrstev při dané výkonové zátěži magnetronů již 500 nm tlusté anatasové vrstvy vykazují velmi vysokou fotoaktivitu a další zvýšení jejich tloušťky nevede k výraznému zvýšení fotoaktivity a teplota depozičního procesu neovlivňuje při T<200°C výsledné vlastnosti vrstev, které jsou tak ovlivněny pouze částicemi, které dopadají a kondenzují na substrátu.
Abstrakt EN: The article reports on correlations between the process parameters of reactive pulsed dc magnetron sputtering, physical properties and the photocatalytic activity of TiO2 films sputtered at substrate surface temperature. Films were deposited using a dual magnetron system equipped with targets in Ar+O2 atmosphere in oxide mode of sputtering. The TiO2 films with highly photoactive anatase phase were prepared without a post-deposition thermal annealing.
Klíčová slova

Zpět

Patička