Přejít k obsahu


Magnetron sputtered Si-B-C-N films with high oxidation resistance and thermal stability in air at temperatures above 1500' C

Citace: [] VLČEK, J., HŘEBEN, S., KALAŠ, J., ČAPEK, J., ZEMAN, P., ČERSTVÝ, R., PEŘINA, V., SETSUHARA, Y. Magnetron sputtered Si-B-C-N films with high oxidation resistance and thermal stability in air at temperatures above 1500' C. Journal of Vacuum and Science Technology A, 2008, roč. 26, č. 5, s. 1101-1108. ISSN: 0734-2101
Druh: ČLÁNEK
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Magnetron sputtered Si-B-C-N films with high oxidation resistance and thermal stability in air at temperatures above 1500' C
Rok vydání: 2008
Autoři: Jaroslav Vlček , Stanislav Hřeben , Jiří Kalaš , Jiří Čapek , Petr Zeman , Radomír Čerstvý , Vratislav Peřina , Yuichi Setsuhara
Abstrakt CZ: Nové materiály kvaternárního systému Si?B?C?N jsou velmi zajímavé pro jejich možné využití za vysokých teplot a v agresivním prostředí. V této práci byly připraveny vrstvy Si?B?C?N na substráty Si a SiC za použití reaktivního dc magnetronového naprašování z terčů C?Si?B a B4C?Si v dusíko-argonové plynné směsi. Vrstvy připravené za optimalizovaných podmínek vykazovaly extrémně vysokou oxidační odolnost ve vzduchu při teplotách dokonce nad 1500 'C.
Abstrakt EN: Novel quaternary Si?B?C?N materials are becoming increasingly attractive because of their possible high-temperature and harsh-environment applications. In the present work, amorphous Si?B?C?N films were deposited on Si and SiC substrates by reactive dc magnetron cosputtering using a single C?Si?B or B4C?Si target in nitrogen-argon gas mixtures. Films deposited under optimized conditions exhibited extremely high oxidation resistance in air at elevated temperatures even above 1500 'C.
Klíčová slova

Zpět

Patička