Přejít k obsahu


Hard amorphous Si-B-C-N films with ultra-high thermal stability

Citace: [] VLČEK, J., HOUŠKA, J., HŘEBEN, S., ČAPEK, J., ZEMAN, P., ČERSTVÝ, R. Hard amorphous Si-B-C-N films with ultra-high thermal stability. In 5th Symposium on Functional Coatings and Surface Engineering. [Montreal]: [École Polytechnique de Montreal, Department of Physics], 2008. s. 49-49.
Druh: STAŤ VE SBORNÍKU
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Hard amorphous Si-B-C-N films with ultra-high thermal stability
Rok vydání: 2008
Místo konání: [Montreal]
Název zdroje: [École Polytechnique de Montreal, Department of Physics]
Autoři: Jaroslav Vlček , Jiří Houška , Stanislav Hřeben , Jiří Čapek , Petr Zeman , Radomír Čerstvý
Abstrakt CZ: Vrstvy Si-B-C-N byly připraveny na substráty Si a SiC za použití dc magnetronového rozprašování z terče C-Si-B nebo B4CSi v dusíko-argonové atmosféře. Bylo zjištěno, že tyto vrstvy mají amorfní nanostrukturu, velmi hladký povrch a dobrou adhezi k různým substrátům (Si, SiC, sklo a ocel) při nízkém tlakovém pnutí (1,0-1,6 GPa). Dále tyto vrstvy vykazovaly vysokou tvrdost (do 45 Gpa), vysoké elastické zotavení, optickou transparentnost, velmi vysokou odolnost proti opotřebení a hlavně extrémně vysokou oxidační odolnost ve vzduchu (dokonce nad 1500 °C) a stabilitu amorfního stavu (do teploty 1700 °C-limit termogravimetru).
Abstrakt EN: The Si-B-C-N films were deposited on Si and SiC substrates by dc magnetron co-sputtering using single C-Si-B or B4C-Si target in nitrogen-argon gas mixtures. The films obtained were found to be amorphous in nanostructure with very smooth surface and good adhesion to various substrates (Si, SiC, glass and steel) at a low compressive stress (1.0-1.6 GPa). They exhibited high hardness (up to 45 GPa), high elastic recovery, optical transparency, very high wear resistance, particularly extremely high oxidation resistance in air (even above 1500 °C), and high stability of the amorphous state (up to a 1700 °C limit).
Klíčová slova

Zpět

Patička