Přejít k obsahu


Pulsed laser deposition ZnO growth and its properties

Citace: [] VINCZE, A., BRUNCKO, J., MICHALKA, M., ŠUTTA, P. Pulsed laser deposition ZnO growth and its properties. In Abstract book. Leuven, Belgium: 2008. s. 41-42.
Druh: STAŤ VE SBORNÍKU
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Pulsed laser deposition ZnO growth and its properties
Rok vydání: 2008
Místo konání: Leuven, Belgium
Autoři: Andrej Vincze , Jaroslav Bruncko , Miroslav Michalka , Pavol Šutta
Abstrakt CZ: Pulsní laserová depozice (PLD) hraje významnou roli pro přípravu různých typů vrstev ZnO, např. dopované, nedopované, monokrystalické a polykrystalické. Tento příspěvek porovnává vlastnosti tenkých vrstev deponovaných z terče ZnO s různými zředěními kyslíkové atmosféry během depozičního procesu. Vlastnosti vzorků byly zjišťovány pomocí scanovacího elektronového mikroskopu (SEM), Secondary ion mass spectrometry (SIMS), rentgenové difrakce (XRD) a Hallových měření. Jsou zde prezentovány typické vlastnosti vrstev ZnO na podložkách Si/SiO2 oproti vrstvám připravovaných v různých kyslíkových atmosférách, které úzce souvisí s výslednými vlastnostmi tenkých vrstev a parametry PLD.
Abstrakt EN: Pulsed laser deposition (PLD) plays an important role for preparing various kinds of ZnO films, e.g. doped, undoped, monocrystalline, and polycrystalline. This contribution is comparing properties of ZnO thin films deposited from ZnO target with different osygen atmosphere levels during the deposition process. The properties of the samples were examined using scanning electron microscopy (SEM), secondary ion mass spectrometry (SIMS), X-ray diffraction measurements (CRD) and Hall characterization. The typical properties of ZnO films on Si/SiO2 substrates versus different oxygen atmosphere are presented, which are in close connection between final thin film properties and PLD conditions.
Klíčová slova

Zpět

Patička